激光脈沖沉積裝置公司歡迎來(lái)電「多圖」

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積系統(tǒng)具有獨(dú)特的優(yōu)越性。它可以把激光燒蝕技術(shù)和我們所擁有的其他沉積技術(shù)（如RF源）集成于一臺(tái)設(shè)備上。可以生長(zhǎng)各種可能的材料。

● 配有6個(gè)旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)，實(shí)現(xiàn)多層薄膜結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)。

● 可與準(zhǔn)分子激光和Yag激光相連。

● 在線監(jiān)控儀器做為可選件，為客戶(hù)提供高質(zhì)量的工藝信息反饋。

● 裝載室不但可以裝取樣品，還可以與其他生長(zhǎng)設(shè)備或分析設(shè)備相連。

應(yīng)用

● 多元素復(fù)合氧化物

● 高溫超導(dǎo)材料

● 磁性材料、金屬材料

● 低蒸汽壓材料

● MEMS

期望大家在選購(gòu)脈沖激光沉積時(shí)多一份細(xì)心，少一份浮躁，不要錯(cuò)過(guò)細(xì)節(jié)疑問(wèn)。想要了解更多脈沖激光沉積的相關(guān)資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話！！！

脈沖激光沉積的自動(dòng)化

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自動(dòng)化裝置：

控制樣品溫度和旋轉(zhuǎn)

靶臺(tái)的位置控制

靶臺(tái)旋轉(zhuǎn)

氣體控制

速率及厚度計(jì)算（利用QCM輸出）

激光束掃描（可選）

激光束屏蔽控制

自動(dòng)泵抽和充氣

差分泵抽結(jié)構(gòu)

RHEED分析（可選）

裝載室壓強(qiáng)監(jiān)控（可選）

脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)

產(chǎn)品具有如下基本特點(diǎn)：

1. 系統(tǒng)可根據(jù)客戶(hù)的特殊要求設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單方便。可使用大尺寸靶材生長(zhǎng)大面積薄膜。

2. 電拋光腔體，主腔呈方形，其前部是鉸鏈門(mén)，方便更換基底和靶材

3. 雙軸磁性耦合旋轉(zhuǎn)靶材操縱器，可手動(dòng)或計(jì)算機(jī)控制選定靶材。磁力桿傳送基底到基底旋轉(zhuǎn)器上，可手動(dòng)或電動(dòng)降低旋轉(zhuǎn)器，實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單快速地更換

4. 主腔室預(yù)留備用的腔口，如用于觀察靶材和基底，安裝原子吸收或發(fā)射光譜儀、原位橢偏儀、離子槍或磁控濺射源、殘留氣體分析器和離子探針或其他的元件等等

5. 系統(tǒng)使用程序化的成像鏈(Optical Train) ，包括聚焦透鏡、反射鏡臺(tái)、動(dòng)力反射鏡支撐架和智能視窗等，無(wú)需頻繁地校準(zhǔn)光學(xué)組件。在激光通過(guò)大直徑靶材時(shí)可使其光柵掃描化（rastering），以獲得均勻性的薄膜。智能視窗不僅可準(zhǔn)確監(jiān)視沉積過(guò)程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可長(zhǎng)時(shí)間保持激光束光路的清潔

6. 系統(tǒng)使用特有的黑體基底加熱設(shè)計(jì)，高溫下（950°C）可與銀膠兼容使用

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司本著多年脈沖激光沉積系統(tǒng)行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，專(zhuān)注脈沖激光沉積系統(tǒng)研發(fā)定制與生產(chǎn)，先進(jìn)的脈沖激光沉積系統(tǒng)生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù)，建立了嚴(yán)格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系，想要更多的了解，歡迎咨詢(xún)圖片上的熱線電話！！！