許昌專業鍍鈦廠家報價質量材質上乘【金常來】

真空蒸鍍可應用在哪些產業?主要產業大多應用于裝飾、光學、電性、機械及防蝕方面等，現就比較常見者分述如下：1.鏡片的抗反射鍍膜(MgO、MgF2、SiO2等)，鏡片置于半球支頂，一次可鍍上百片以上。2.金屬、合金或化合物鍍膜，應用于微電子當導線、電阻、光電功能等用途。3.鍍鋁或鉭于絕緣物當電容之電極。4.特殊合金鍍膜MCrAlY具有耐熱性抗yang化性，耐溫達1100OC，可應用須耐高溫環境的工件，如高速切削及成形加工、渦輪引擎葉片等。5.鍍金屬于玻璃板供建筑物之裝飾及防紫外線。

PVD鍍膜與傳統化學電鍍（水電鍍）的異同：PVD鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。PVD鍍膜技術目前主要應用的行業：PVD鍍膜技術的應用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。

主要工藝：目前，物理氣相沉積（PVD）技術主要包括真空陰極弧物理蒸發、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強濺射四種。①陰極弧物理蒸發（ARC）：真空陰極弧物理蒸發過程包括將高電流，低電壓的電弧激發于靶材之上，并產生持續的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發出來形成高度激發的離子束，在含有惰性氣體或反應氣體的真空環境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發靶材的離化率在90%左右，所以與真空磁控離子濺射相比，沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結合力。