吉林鈣鈦礦蒸發鍍膜機公司價格合理 沈陽鵬程真空技術

ZF500有機蒸發鍍膜機

廣泛應用于高校材料、物理、化學、電子、能源等相關學科以及科研院所制備高質量功能薄膜、蒸鍍電極等，半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發領域。

系統組成:

主要由真空室、蒸發源、樣品臺、 真空抽氣及測量、膜厚測試 、電控系統組成。

技術指標：

極限真空度4×10-5Pa，系統漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢復真空時間：40分鐘可達6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

樣品臺：尺寸為4英寸4平面樣品；

有機束源爐：數量：4支，標準型600度控溫；

樣品架：安裝加熱爐。基片的溫度從室溫至600℃（硅片上表面的溫度，只需標定一次即可）

4套擋板系統：動密封手動控制；

樣品擋板（１套），磁力撥叉，

膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

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電阻熱蒸發鍍膜——“蒸發技術”介紹

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蒸發技術分為間歇蒸發與連續蒸發、直接電阻加熱蒸發和間接電阻加熱蒸發,連續生產與制造厚膜時采用連續蒸發加熱。一個入射的蒸氣原子在表面的滯留時間中,原子不斷地擴散形成不均勻的成核作用，隨著蒸氣原子不斷地沖擊表面,各個核都在增長，相鄰各核開始接觸進入聚結階段，直到形成連續膜。派瑞林裂解儀的工作原理由于裂解碎片的組成和相對含量與被測高分子的結構密切相關，所以，每種高分子的裂解色譜圖都各有其特征，我們稱之為熱裂解指紋色譜圖。也可把上述過程劃分為小島階段、網絡階段、孔階段及連續膜階段。