中頻離子鍍膜機(jī)價(jià)格合理「多圖」

真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類(lèi)型及特點(diǎn)

離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術(shù)而發(fā)展起來(lái)的沉積技術(shù)。在真空條件下，采用適當(dāng)?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過(guò)程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構(gòu)成了不同類(lèi)型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點(diǎn)。

表離子鍍的種類(lèi)及其特點(diǎn)

種類(lèi)蒸發(fā)源離化方法工作環(huán)境特點(diǎn)用途

直流放電法電阻輝光放電dc:0.1kv～5kv惰性氣體1pa，0.25ma/cm2結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，膜層結(jié)合力強(qiáng)，但鍍件溫升高，分散性差！耐熱，潤(rùn)滑等鍍件

弧光放電法電子束、燈絲弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa離化率高，易制成反應(yīng)膜，可在高真空下成膜，利于提高質(zhì)量切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法空心陰極等離子體電子束dc:0v～200v惰性氣體或反應(yīng)氣體離化率高，蒸發(fā)速度大，易獲得高純度膜層裝飾、耐磨等鍍件

調(diào)頻激勵(lì)法電阻、電子束射頻電場(chǎng)13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性氣體或反應(yīng)氣體離化率高，膜層結(jié)合力強(qiáng)，鍍件溫升低，但分散性差光學(xué)、半導(dǎo)體等鍍件

電場(chǎng)蒸發(fā)法電子束二次電子dc:1kv～5kv真空不純氣體少，能形成較好的膜電子元件

多陰極法電阻、電子束熱電子dc:0v～5kv惰性氣體或反應(yīng)氣體低速電子離化效果好裝飾、電子、精密機(jī)械等零件

聚焦離子束法電阻聚集離子束dc:0v～5kv惰性氣體因離子聚束，膜層結(jié)合力強(qiáng)電子元件

活性反應(yīng)法電子束二次電子dc:200v反應(yīng)氣體o2、n2、ch4、c2h4等金屬與反應(yīng)氣體組合能制備多種傾倒物膜層電子、裝飾、耐磨等鍍件

真空鍍膜機(jī)鍍膜的塑料材料如何挑選

真空鍍膜機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展，使很多原來(lái)不能鍍膜的材料也得以實(shí)現(xiàn)鍍膜，但仍有一部分材料并未研發(fā)出解決方案，但我非常期待，因?yàn)榭萍际菬o(wú)窮的，很多以前不敢想象的技術(shù)，現(xiàn)在都實(shí)現(xiàn)了，將來(lái)必須會(huì)出現(xiàn)新的一頁(yè)。

對(duì)于真空鍍膜機(jī)的技術(shù)，塑料也是可以鍍膜的了，這是一種技術(shù)性的發(fā)展，但不是所有的塑料都可以用真空鍍膜機(jī)進(jìn)行鍍膜的，因?yàn)樗芰媳旧硭鶐в械哪承┨匦允悄壳暗腻兡ぜ夹g(shù)仍未可解決的。

那么什么樣的塑料才能用真空鍍膜機(jī)鍍膜呢，歸納起來(lái)，可以分三點(diǎn)來(lái)挑選。

首先，塑料本身和所鍍膜層之間要有一定的親和力，只有膜層與工件緊密的結(jié)合在一起，才能不易脫落，壽命長(zhǎng)久，有些塑料沒(méi)辦法和臘層很好的結(jié)合在一起，研究人員發(fā)現(xiàn)在塑料表面先涂上一層便于膜層緊密結(jié)合的涂料，這樣就解決了附著力的問(wèn)題，但這種涂料在與膜層能加強(qiáng)結(jié)合外，現(xiàn)時(shí)也要和塑料加強(qiáng)結(jié)合，同時(shí)滿(mǎn)足這兩種條件的涂料也不是說(shuō)那么容易找到，只有一部分的塑料可以找到相應(yīng)的涂料，但有部分塑料始終還未找到，而這些塑料就不能用真空鍍膜機(jī)鍍膜了。

其次，塑料本身必定會(huì)含有一些揮發(fā)性的雜質(zhì)，隨著溫度的上漲，會(huì)揮發(fā)逸出，但作為可以鍍膜的工件，所能忍受的揮發(fā)物質(zhì)是有限的，所以在挑選塑料材料作真空鍍膜時(shí)，要選擇放氣量少的，這樣對(duì)于真空鍍膜機(jī)運(yùn)作時(shí)的真空度影響也可以采取措施使其受到控制，如果大量的話(huà)就會(huì)控制不到而使真空度下降，影響鍍膜質(zhì)量。

最后就是塑料受熱的穩(wěn)定性，塑料受到廣泛使用就是因?yàn)槠淇梢栽诩訙氐臓顟B(tài)下按照設(shè)計(jì)者的意愿塑造出想要的形象，這就是受熱變形，但在真空鍍膜機(jī)的鍍膜時(shí)的環(huán)境下，必定產(chǎn)生一定的溫度，

如果塑料受熱不穩(wěn)定就會(huì)變形，即使鍍的膜層再好，工件已經(jīng)變形，又有什么用呢，所以對(duì)于塑料材料的鍍膜，都會(huì)使用產(chǎn)生的熱量低于工件熔點(diǎn)的真空鍍膜機(jī)，但有些塑料熔點(diǎn)實(shí)在在低的，目前的技術(shù)仍未解決，所以這些塑料都不適合真空鍍膜機(jī)的鍍膜。

PACVD硬質(zhì)涂層真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)的特點(diǎn)：

（1）2個(gè)等離子激發(fā)源（射頻，直/直流脈沖）（2）安裝在兩邊的2閉合場(chǎng)非平衡磁控管濺射（3）帶有一個(gè)前門(mén)的六角形真空室，保證一個(gè)潔凈的環(huán)境（4）干式真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)安裝在一個(gè)單獨(dú)的空間，處理高吞吐量的碳?xì)浠衔锖推渌に嚉怏w（5）基材和導(dǎo)電與非導(dǎo)電涂層及組合原位清洗的離子激發(fā)系統(tǒng)（6）可選擇的等離子體激發(fā)模式和頻率使等離子的密度和能量適應(yīng)基材增壓特性，以小壓強(qiáng)進(jìn)行電離作用（8）單獨(dú)的PACVD工藝中不強(qiáng)制轉(zhuǎn)動(dòng)的時(shí)候，一種行星式轉(zhuǎn)動(dòng)也能夠使濺射涂層統(tǒng)一沉積（9）特別是在PACVD過(guò)程特殊設(shè)計(jì)的進(jìn)氣系統(tǒng)能夠優(yōu)化涂層的均勻性和清潔度（10）泵的選擇編排和上下的蒸汽壓力調(diào)節(jié)，保證了涂層系統(tǒng)的高可靠性（11）iFIX基礎(chǔ)的控制系統(tǒng)，易于批次、配方和報(bào)警處理（12）所有數(shù)據(jù)的采集，保證良好的過(guò)程控制。工藝過(guò)程中定制曲線圖做到良好檢查方案。在批次運(yùn)行過(guò)程中，操作者也可更改或新建工藝（13）用戶(hù)可自行設(shè)置進(jìn)入控制系統(tǒng)的權(quán)限，以保證系統(tǒng)的質(zhì)量和安全性

多弧離子真空鍍膜機(jī)發(fā)展歷程及特點(diǎn)

20世紀(jì)70年代以來(lái)，隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)材料的綜合性能要求不斷提高，單一材料性能已經(jīng)不能滿(mǎn)足某些特征環(huán)境下工作機(jī)械的性能要求。離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)通過(guò)物理作用，使基體表面沉積出薄膜，在美觀的同時(shí)又有效提高鍍件的物理化學(xué)性能，從而提高產(chǎn)品的使用壽命。離子鍍技術(shù)是當(dāng)今使用面廣、先進(jìn)的表面處理技術(shù)之一。據(jù)統(tǒng)計(jì)，國(guó)內(nèi)外已有近一半以上表面處理使用多弧離子鍍技術(shù)，特別適用于對(duì)耐磨性、耐腐蝕性有特殊要求的場(chǎng)合。80年代后期，國(guó)內(nèi)外相繼開(kāi)發(fā)了離化效率更高的電弧放電真空離子鍍、多弧真空離子鍍等，使離子鍍技術(shù)進(jìn)入了一個(gè)新階段.

近年來(lái)，離子真空鍍膜機(jī)的自動(dòng)化程度得到了較快發(fā)展，國(guó)外的設(shè)備采用智能一體化控制系統(tǒng)，可精準(zhǔn)計(jì)算和控制鍍膜過(guò)程中的基體溫度、氣體流量和靶電流等關(guān)鍵性參數(shù)。國(guó)內(nèi)真空離子鍍膜機(jī)的自動(dòng)化程度也有了一定的發(fā)展，但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和精準(zhǔn)性方面尚需提升，設(shè)備依賴(lài)進(jìn)口。同時(shí)多弧離子鍍膜機(jī)低端產(chǎn)品市場(chǎng)存在供大于求的情況，價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)較為激烈。