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發布時間:2021-09-18 08:41  
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真空鍍膜應用,簡單地理解就是在真空環境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。
相對于傳統鍍膜方式,真空鍍膜應用屬于一種鍍膜,它的主要方法包括以下幾種
1、真空蒸鍍:其原理是在真空條件下,用蒸發器加熱帶蒸發物質,使其氣化或升華,蒸發離子流直接射向基片,并在基片上沉積析出固態薄膜的技術。
2、濺射鍍膜:濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上2000V高壓電,激發輝光放電,帶正電的離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
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鍍膜技術的應用主要分為兩大類:裝飾鍍和工具鍍。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命。
濺射鍍膜技術是用離子轟擊靶材表面,濺射產生的原子沉積在基體表面形成PVD涂層。通常是利用氣體放電產生氣體電離,其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體,擊出陰極靶體原子或分子,飛向被鍍基體表面沉積成PVD涂層。磁控濺射鍍膜技術是在濺射鍍膜基礎上發展而來,與濺射鍍膜相比,沉積速率更快,涂層致密且與基體附著性好。