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發布時間:2021-01-01 17:24  
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真空濺鍍主要利用輝光防電將亞氣AR離子撞擊靶材表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來得好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢的多。新型的濺鍍設備幾乎都是用磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍亞氣離子化,造成靶與亞氣離子間的撞擊幾率增加,提高濺鍍速率.
特性:采用不銹鋼、純鈦、特佛龍等換熱器直接加熱槽液,自動控溫,無換熱溫差,溫度平均。電鍍前處置高溫局部加熱節能50%左右,電鍍后處置鍍鎳、堿銅加熱節能等節約70%左右。
一些通用的電鍍技術,在作為工藝應用到產品上時,會分出機械、電子、輕工、五金等不同的電鍍工藝,行業內的交流非常活躍,而行業之間卻很少往來。這種條塊分割的現象雖然使某些領域的電鍍技術獲得了發展,也在一些電鍍攻關項目中取得了重要的技術成果,但是從整體上還是多少制約了我國電鍍技術的提升與發展,這種現象在改革開放中得到了緩解,同時也出現了發展不均衡的現象。