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              發布時間:2021-01-08 21:03  

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              真空鍍膜之多弧離子鍍 :

              多弧離子鍍又稱電弧離子鍍或陰極離子鍍是以鍍膜材料為陰極,陽極和真空室相連,陰極和陽極分別接到低壓大電流直流電源的負極和正極。特別是透明導電玻璃目前廣泛應用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等。蒸鍍時由于放電,在陰極表面上出現明亮的弧斑, 從而使陰極材料蒸發并電離, 形成金屬等離子體。引弧電極與陰極靶表面接觸和離開的瞬間,陰極和陽極之間形成穩定的自持弧光放電。

              用普通真空鍍膜只能鍍直射表面,蒸發料粒子尤如攀登云梯一樣,只能順梯而上;而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中,帶電離子則好比坐上了直升飛機,能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。


              鍍膜工藝

              鍍膜工藝是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法,鍍膜方法有真空蒸發、真空濺射、化學還原、溶膠凝膠等。鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響:在膜層沉積時,用于增加離子能量,促進和改善薄膜生長,提高膜基結合力。下面說一下陰極真空磁控濺射法,通過磁控濺射,在浮法玻璃的表面鍍一層或多層金屬、或金屬化合物薄膜。通過鍍膜可以改變基片的某些屬性,如光學性能、電學性能、機械性能、化學性能、裝飾性能等。



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