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真空鍍膜機

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。有的真空泵出口壓強低于大氣壓，需要前級泵，故都需要把泵組合起來使用。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。

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蒸發鍍膜

一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時間，厚度大小

組分均勻性：蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。

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對于真空鍍膜機必須要掌握的名詞

低溫冷凝泵：它是利用低溫表面來凝聚氣體分子以實現抽氣的一種泵，是目前獲得極限真空1高，抽速1大的抽氣泵。

冷凝泵的工作原理：主要是低溫表面對氣體的冷凝作用、冷捕作用及物理低溫吸附作用。

低溫冷凝：根據各種氣體的特性，采用液氦或者制冷循環氦氣來冷卻。

冷捕集：就是不可凝氣體被可凝氣體捕集的現象，通常二氧化碳、水蒸氣、氮氣、壓氣等氣體首先形成霜，于低溫表面形成吸附層，進而達到吸附其它氣體的目的，低溫泵抽除混合氣體的效果比抽除單一效果好就是這個原因。

低溫吸附：指低溫表面上的吸附劑吸附氣體的作用，由于吸附劑與氣體分子之間的相互作用很強，故可達到氣相壓強比冷凝表面溫度下它的飽和蒸汽壓還低的水平。吸附劑通常是活性炭。

冷凝泵的抽氣速率及影響冷凝泵的抽氣速率與冷凝表面的面積大小有關系，經數據顯示，單位冷凝表面積下的抽氣速率為11.6升/秒.平方厘米，冷凝泵可以抽到10-8帕；此外粘有活性炭的吸附表面的幾何形狀及位置、活性炭的顆粒結構、粘結材料及粘接工藝，對抽速也有很大的影響。每種泵都有一定的工作壓強范圍，如：2BV系列水環真空泵工作壓強范圍760mmHg~25mmHg(絕壓)，在這樣寬壓強范圍內，泵的抽速隨壓強而變化(詳細變化情況參照泵的性能曲線)，其穩定的工作壓強范圍為760~60mmHg。其次關鍵在于制冷機的制冷量要足夠大。

真空計：真空計是真空鍍膜機器上的重要組成部分，它是檢測鍍膜機真空度的重要手段。

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