金屬真空鍍膜廠的行業須知「在線咨詢」

化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較，具有下列優點：

(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。

(2)在真空條件下制備薄膜，環境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。

(3)薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固。

(4)干式鍍膜既不產生廢液，也無環境污染。

(3)蒸發或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

(4)每種薄膜都可以通過微調閥地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質量分數，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質量分數降低到的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現的。

(5)由于鍍膜設備的不斷改進，鍍膜過程可以實現連續化，從而大大地提高產品的產量，而且在生產過程中對環境無污染。

(6)由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。

蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物

質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。

膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。

　　塑料制品表面金屬化后，應用范圍將更加廣泛。束流沉積鍍，結合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術的離子表面復合處理技術，是一種利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度下，形成具有良好特性薄膜的技術。塑料件表面的真空鍍膜可分為功能性鍍膜和裝飾性鍍膜。作為功能性鍍膜，它可改善塑料件表面的物理、化學性質，如可提高塑料件的尺寸穩定性、導電性等；作為裝飾性鍍膜，可使塑料件表面具有金屬光澤并可根據實際裝飾的需要制作出不同的顏色，如金黃色、古銅色、金屬紅色、金屬綠色、金屬藍色等，具體可參見樣品展示。

      裝飾性真空鍍膜現已得到了越來越廣泛的應用，與人們的日常生活息息相關。大到飛機、汽車，小到化裝品、玩具，無一不有真空鍍膜的烙印。裝飾性真空鍍膜現已得到了越來越廣泛的應用，與人們的日常生活息息相關。