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              汕頭稀土拋光粉公司性價比高,康運公司

              發布時間:2021-03-30 05:54  

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              (氧化鐵)是歷早使用的拋光材料,但它的拋光速度慢,而且鐵銹色的污染也無法消除。隨著稀土工業的發展,于二十世紀30年代,首先在歐洲出現了用稀土氧化物作拋光粉來拋光玻璃。在第二次中,一個在伊利諾斯州羅克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇員,于1943年提出了一種叫做巴林士粉(Barnesite)的稀土氧化物拋光粉,這種拋光粉很快在拋光精密光學儀器方面獲得成功。由于稀土拋光粉具有拋光、質量好、污染小等優點,激起了美國等國家的群起研究。這樣,稀土拋光粉就以取代傳統拋光粉的趨勢迅速發展起來。




              以稀土拋光粉中CeO2量來劃分:

                稀土拋光粉的主要成分是CeO2,據其CeO2量的高低可將拋光粉分為兩大類:一類是CeO2含量高的價高質優的高拋光粉,一般CeO2/TREO≥80%,另一類是CeO2含量低的廉價的低拋光粉,其含量在50%左右,或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。






              稀土拋光粉的粒度及粒度分布對拋光粉性能有重要影響。

                對于一定組分和加工工藝的拋光粉,平均顆粒尺寸越大,則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數情況下,顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度。相反地,如果拋光粉顆粒平均粒度較小,則磨削量減少,磨削速度降低,玻璃表面平整度提高,標準拋光粉一般有較窄的粒度分布,太細和太粗的顆粒很少,無大顆粒的拋光粉能拋光出高質量的表面,而細顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。






              因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉(包括稀土拋光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉,由于在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視,產量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經問世,隨著現代科學技術的發展,其應用前景不可預測,但目前其市場份額還很小,屬于研發階段。