汕尾稀土拋光粉生產工藝生產基地 康運公司

以上原料中除種外，第2,3,4種均含輕稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2為主，w（CeO2）為48%~50%.我國具有豐富的資源，據測算，其工業儲量約為1800萬噸（以CeO2計），這為今后我國持續發展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優勢，并可促進我國稀土工業繼續高速發展。

　　1.4主要生產工藝及設備

　　1.4.1高系稀土拋光粉的生產

　　以稀土混合物分離后的氧化為原料，以物理化學方法加工成硬度大，粒度均勻、細小，呈面心立方晶體的粉末產品。其主要工藝過程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級→過濾→烘干→系稀土拋光粉產品。

　　主要指標：產品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉（）。

　　1.4.2中系稀土拋光粉的制備

　　用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉淀劑）使轉化成w（CeO2）=80%~85%的中級系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為：

　　原料→氧化→優溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級系稀土拋光粉產品。主要設備：氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。

稀土拋光粉的應用

　　由于系稀土拋光粉具有較優的化學與物理性能，所以在工業制品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的拋光。

　　高系稀土拋光粉，主要適用于精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優良，拋光效果較好，由于價格較高，國內的使用量較少。