常熟制版報價擇優推薦「蘇州制版」

公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得，常用加工設備為直寫式光刻設備，如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。

掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統）等。光掩膜一般也稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉印到產品基板上。

光呆板業界別稱光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金屬鉻和光感應膠，該商品是由石英玻璃或是碳酸鈉夾層玻璃做為襯底，在其上邊鍍上一層層金屬鉻和光感應膠。尺寸漲縮原因分析膠片在光繪前沒有經過預置由于膠片制造時無法預先控制膠片中的濕度與每個生產車間的濕度一致，因此使用之前應先使其與工作環境達到平衡的狀況。在塑料薄膜、塑膠或夾層玻璃化學反應原材料上制做各種各樣作用圖型并精i明確位，便于用以光致抗蝕劑鍍層可選擇性曝i光的這種構造，稱之為光刻掩模板。