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發(fā)布時(shí)間:2021-04-05 12:50  
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X射線熒光光譜法原理研究
一六儀器 光譜測(cè)厚儀研發(fā)生產(chǎn)廠家 一六儀器一liu品質(zhì),可同時(shí)檢測(cè)多層材料鍍層厚度(含有機(jī)物)及成分.操作簡(jiǎn)單方便.厚度含量測(cè)試只需要幾秒鐘,多小多復(fù)雜的樣品輕松搞定,歡迎來(lái)電咨詢!
X射線
德國(guó)物理學(xué)家倫琴在研究稀薄氣體放電實(shí)驗(yàn)時(shí),采用了一種特殊裝置,此裝置發(fā)射電子,在陰極相對(duì)的位置裝置金屬陽(yáng)極,在陰陽(yáng)兩極之間加以高電壓,當(dāng)容器充有稀薄氣體時(shí),氣體中可觀察到放電現(xiàn)象,試驗(yàn)中發(fā)現(xiàn)的這種未知射線,倫琴命名為X射線。對(duì)X射線定義為:電子在原子核附近加速或核外內(nèi)層電子能級(jí)間發(fā)生躍遷時(shí)所發(fā)射的電磁輻射。另外,被測(cè)量的物體,可能會(huì)上下跳動(dòng),偏離測(cè)量時(shí)的位置,這種傾斜也會(huì)影響測(cè)量的精度。


X射線熒光的基本原理
鍍層測(cè)厚儀|光譜測(cè)厚儀|X-ray測(cè)厚儀|X熒光測(cè)厚儀|凃?qū)幽ず駜x---一六儀器 歡迎咨詢聯(lián)系
X射線熒光是由原級(jí)X射線照射待測(cè)樣品時(shí)所產(chǎn)生的次級(jí)X射線,入射的X射線具有相對(duì)較大的能量,使其可以轟擊出位于元素原子內(nèi)層中的電子。X射線熒光光譜的波長(zhǎng)在0.01-10納米之間,能量在124KeV-0.124KeV之間。用于元素分析中的X射線熒光光譜波長(zhǎng)的范圍在0.01-11納米之間,能量為0.111-0.124KeV。測(cè)厚儀,英文名稱為thicknessgauge,是一類用來(lái)測(cè)量材料及物體厚度的儀表,在工業(yè)生產(chǎn)中常用來(lái)連續(xù)或抽樣測(cè)量產(chǎn)品的厚度。
當(dāng)X射線激發(fā)出試樣特征X射線時(shí),其入射電磁輻射能量必須大于某一個(gè)值才能引起其內(nèi)層電子激發(fā)態(tài)從而形成空穴并引起電子的躍遷,這個(gè)值是吸收限,相當(dāng)于內(nèi)層電子的功函數(shù)。如果入射電磁輻射的能量低于吸收限則在任何情況下都不能激發(fā)原子內(nèi)層電子并產(chǎn)生特征X射線。儀器規(guī)格:外形尺寸:550mmx660mmx470mm(長(zhǎng)x寬x高)樣品倉(cāng)尺寸:500mm×660mm×215mm(長(zhǎng)x寬x高)儀器重量:55kg供電電源:交流220±5Vzuida功率:330W環(huán)境溫度:15℃-30℃環(huán)境相對(duì)濕度:<。
一六儀器---鍍層測(cè)厚儀|光譜測(cè)厚儀|X-ray測(cè)厚儀|X熒光測(cè)厚儀|凃?qū)幽ず駜x
性能優(yōu)勢(shì):
下照式設(shè)計(jì):可以快速方便地定位對(duì)焦樣品。
無(wú)損變焦檢測(cè):可對(duì)各種異形凹槽進(jìn)行無(wú)損檢測(cè),凹槽深度范圍0-90mm。
微聚焦射線裝置:可檢測(cè)面積小于0.002mm2的樣品,可測(cè)試各微小的部件。
率的jie shou qi :即使測(cè)試0.01mm2以下的樣品,幾秒鐘也能達(dá)到穩(wěn)定性。
精密微型滑軌:快速精準(zhǔn)定位樣品。
EFP先進(jìn)算法軟件:多層多元素,甚至有同種元素在不同層也難不倒EFP算法軟件。
測(cè)厚儀和膜厚儀一樣嗎
測(cè)厚儀和膜厚儀是不一樣的,膜厚儀屬于測(cè)厚儀的分類,也就是說(shuō)測(cè)厚儀是膜厚儀的上司一樣,對(duì)此我們也可以來(lái)了解下測(cè)厚儀跟膜厚儀的一些概念:
測(cè)厚儀:凡能使超聲波以一恒定速度在其內(nèi)部傳播的各種材料均可采用此原理測(cè)量,如金屬類、塑料類、陶瓷類、玻璃類??梢詫?duì)各種板材和加工零件作準(zhǔn)確測(cè)量,另一重要方面是可以對(duì)生產(chǎn)設(shè)備中各種管道和壓力容器進(jìn)行監(jiān)測(cè),監(jiān)測(cè)它們?cè)谑褂眠^(guò)程中受腐蝕后的減薄程度。廣泛應(yīng)用于石油、化工、冶金、造船、航空、航天等各個(gè)領(lǐng)域。無(wú)損變焦檢測(cè):可對(duì)各種異形凹槽進(jìn)行無(wú)損檢測(cè),凹槽深度范圍0-90mm。