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發布時間:2020-12-28 11:04  
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PVD(物理氣相沉積)技術主要分為三類,真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術的三個分類,相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來,真空離子鍍技術的發展是zui快的,它已經成為了當代zui先進的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長法,沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下,涂層物質源是固態物質,經過“蒸發或濺射”后,在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態物質涂層。

PVD鍍膜與傳統化學電鍍(水電鍍)的異同:PVD鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是,兩者都屬于表面處理的范疇,都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是:PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩定;PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。PVD鍍膜技術目前主要應用的行業:PVD鍍膜技術的應用主要分為兩大類:裝飾鍍膜和工具鍍膜。

清洗是通過化學或(及)物理的方法將工件上的油污、銹跡、灰塵等去除干凈,確保工件獲得較好的涂層結合力和生產的順利進行。清洗是PVD涂層前必不可少的一道工序,也是PVD涂層生產中zui重要的工藝,清洗出了問題,涂層生產不得不延遲、涂層過程可能中斷、或涂層結合力出現問題而導致客戶投訴和賠償,尤其是在涂層設備的技術能力不高的情況下,清洗出了問題,更容易發生上述風險。有四個因素影響著清洗的質量,分別為:清洗時間、化學藥劑、機械作用以及清洗液溫度,這四個因素之間也相互影響,一個因素的減弱,可以通過增強另外三個因素的作用來彌補,反之亦然。

由于該工藝過程具有炸性質,并可形成液化金屬的液滴,因此可能導致涂層表面粗糙。引入反應氣體從而形成化合物2)濺射(電離度低):濺射是用高能粒子轟擊靶材而使原子從固體靶材上彈出的過程。在薄膜涂層中,這是通過加速朝向固體靶材的ya離子,使其在靶材上擊出金屬原子并聚集在工件上來實現的。通過在真空腔室中引入氣體而形成如金屬氮化物等化合物。國內外技術對比分析:①整體差距:調查資料顯示:目前,國外PVD涂層行業的生產設備一般技術力量雄厚,工藝裝備精良,檢測手段齊全,并擁有全國先進的大噸位及配套生產設備,具有較強的生產能力。