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發(fā)布時間:2021-09-19 12:22  
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光學鍍膜方法材料氟化鎂:無色四方晶系粉末,純度高,二氧化硅:無色透明晶體,熔點高,硬度大,化學穩(wěn)定性好。純度高,用其制備高質量Si02鍍膜,蒸發(fā)狀態(tài)好,不出現(xiàn)崩點。光學零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。氧化鋯:白色重質結晶態(tài),具有高的折射率和耐高溫性能,化學性質穩(wěn)定,純度高,用其制備高質量氧化鋯鍍膜,不出崩點。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)。為了消除光學零件表面的反射損失,提高成像質量,涂鍍一層或多層透明介質膜,稱為增透膜或減反射膜。
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