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              發(fā)布時間:2020-11-15 04:28  

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              蒸發(fā)鍍膜過程中,從膜材表面蒸發(fā)的粒子以一定的速度在空間沿直線運動,直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內(nèi),當(dāng)氣相中的粒子濃度和殘余氣體的壓力足夠低時,這些粒子從蒸發(fā)源到基片之間可以保持直線飛行,否則,就會產(chǎn)生碰撞而改變運動方向。為此,增加殘余氣體的平均自由程,以減少其與蒸發(fā)粒子的碰撞幾率,把真空室內(nèi)抽成高真空是必要的。當(dāng)真空容器內(nèi)蒸發(fā)粒子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離(以下稱蒸距)時,就會獲得充分的真空條件。設(shè)蒸距(蒸發(fā)源與基片的距離)為L,并把L看成是蒸發(fā)粒子已知的實際行程,λ為氣體分子的平均自由程,設(shè)從蒸發(fā)源蒸發(fā)出來的蒸汽分子數(shù)為N0,在相距為L的蒸發(fā)源與基片之間發(fā)生碰撞而散射的蒸汽分子數(shù)為N1,而且假設(shè)蒸發(fā)粒子主要與殘余氣體的原子或分子碰撞而散射,則有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制



              PVD技術(shù)被認(rèn)為是取代電鍍方法zui理想的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用技術(shù),有望成為裝飾鍍膜領(lǐng)域的重要技術(shù)手段,且已顯示出巨大競爭優(yōu)勢。隨著人們的高質(zhì)量、高品位生活對PVD高xing能裝飾涂層的巨大需求,對現(xiàn)有PVD裝飾涂層提出了高耐磨、抗yang化、抗指紋的綜合功能裝飾性要求,掌握具有超硬、耐磨、耐氧化、耐酸堿等優(yōu)異性能的高質(zhì)量功能裝飾涂層的綠色鍍膜技術(shù),是產(chǎn)品維持核心競爭力的有利保證。PVD真空鍍膜生產(chǎn)線、自動化拉絲生產(chǎn)線以及噴涂生產(chǎn)線組成的一整套清潔、環(huán)保、gao效的功能多彩膜連續(xù)生產(chǎn)線。經(jīng)檢驗,檢驗結(jié)果符合相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)要求,經(jīng)用戶使用,反應(yīng)良好,具有顯著的經(jīng)濟和社會效益。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制



              在ji小空間的電流密度極高,弧斑尺寸ji小,估計約為1μm~100μm,電流密度高達(dá)l05A/cm2~107A/cm2。每個弧斑存在極短時間,爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點處的鍍料,蒸發(fā)離化后的金屬離子,在陰極表面也會產(chǎn)生新的弧斑,許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失,所以又稱多弧蒸發(fā)。zui早設(shè)計的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源,是在陰極背后配置磁場,使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應(yīng),有利于離子增大能量轟擊量體,采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜,離化率較高,所以又稱為電弧等離子體鍍膜。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制



              與CVD工藝相比,PVD工藝處理溫度低,在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響;薄膜內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力,更適于對硬質(zhì)合金精密復(fù)雜刀具的涂層;PVD工藝對環(huán)境無不利影響,符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。當(dāng)前PVD涂層技術(shù)已普遍應(yīng)用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉(zhuǎn)位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。PVD技術(shù)不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結(jié)合強度,真空PVD鍍膜技術(shù)在壓鑄模具中的運用真空PVD鍍膜涂層表面摩擦系數(shù)小,經(jīng)過表面拋光的金屬材料的表面對鋼摩擦系數(shù)一般在0.9左右, 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制


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