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發(fā)布時間：2020-11-07 11:59
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下游發(fā)展趨勢
光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%，并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%到50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場巨大。因此光刻膠是半導體集成電路制造的核心材料。2016年全球半導體用光刻膠及配套材料市場分別達到14.5億美元和19.1億美元，分別較2015年同比增長9.0%和8.0%。預計2017和2018年全球半導體用光刻膠市場將分別達到15.3億美元和15.7億美元。顯示器，OLEDs，波導(waveguides)，VCSELS，成像，電鍍，納米碳管，微流體，芯片倒裝等方面。隨著12寸先進技術節(jié)點生產線的興建和多次曝光工藝的大量應用，193nm及其它先進光刻膠的需求量將快速增加
全球市場
目前，光刻膠單一產品市場規(guī)模與海外巨頭公司營收規(guī)模相比較小，光刻膠僅為大型材料廠商的子業(yè)務。但由于光刻膠技術門檻高，就某一光刻膠子行業(yè)而言，僅有少數(shù)幾家供應商有產品供應。
由于光刻膠產品技術要求較高，中國光刻膠市場基本由外資企業(yè)占據，國內企業(yè)市場份額不足40%，高分辨率的KrF和ArF光刻膠，其核心技術基本被日本和美國企業(yè)所壟斷，產品也基本出自日本和美國公司，包括陶氏化學、JSR株式會社、信越化學、東京應化工業(yè)、Fujifilm，以及韓國東進等企業(yè)。為了保證線寬的重復性和接下去的顯影時間，同一個樣品的膠厚均勻性和不同樣品間的膠厚一致性不應超過±5nm(對于1。
而細化到半導體用光刻膠市場，國內企業(yè)份額不足30%，與國際水平存在較大差距。超過80%市場份額掌握在日本住友、TOK、美國陶氏、美國futurrex等公司手中，國內公司中，蘇州瑞紅與北京科華實現(xiàn)了部分品種的國產化，但是整體技術水平較低，僅能進入8英寸集成電路生產線與LED等產線。問題回饋：1．我們是LED制造商，麻煩推薦幾款可以用于離子蝕刻和Lift-off工藝的光刻膠。
光刻膠的重要性
在北京化工大學理學院院長聶俊眼里，我國雖然已成為世界半導體生產大國，但面板產業(yè)整體產業(yè)鏈仍較為落后。目前，上游電子化學品（LCD用光刻膠）幾乎全部依賴進口，必須加快面板產業(yè)關鍵核心材料基礎研究與產業(yè)化進程，才能支撐我國微電子產業(yè)未來發(fā)展及國際“地位”的確立。前道工藝出了問題，保證不了科研與生產，光刻膠國產化就遙遙無期。
“假如我們把光刻機比作一把菜刀，那么光刻膠就好比是要切割的菜，沒有高質量的菜，即使有了鋒利的菜刀，也無法做出一道佳肴。”日前，江蘇博硯電子科技有限公司技術部章宇軒在接受科技日報記者采訪時說。
