等離子清洗活化品牌值得信賴 晟鼎精密用心服務

如何量化等離子清洗機的處理效果？

    通過接觸角測量儀進行測量：在這種方法中，我們會測量水滴至活化表面的濕潤角。活化效果越好，水滴則越是平鋪于表面之上。當然，隨著接觸角測量儀的普及，這種方法越來越多的使用，這是因為接觸角測量儀器相對于達因筆，測量的效果更為準確，并且可以量化的水滴角角度數據，達因特做為表面性能解決及處理方案，在客戶使用等離子清洗之后同時提供免費的接觸角測量，由下圖中我們可以看到，原先的線路板初始水滴角度是疏水的，60度以上，經過等離處理后達到30度以下。同時對于較大或者形狀復雜的零部件，如果不方便對其進行切割，我們可以提供便攜式接觸角測量儀器進行測量。

     材料表面改性方法包括化學的和物理的方法。通常化學方法比較繁瑣,且大量應用有毒化學試劑,容易對環境造成污染,對人體也有極大危害。與其相比,低溫等離子體表面處理技術具有工藝簡單、操作簡便、易于控制、對環境無污染等優點,日益受到人們的青睞。

　　低溫等離子體中含有各種活性粒子:電子、粒子,各種激發態的原子、分子及自由基等。

　　在這些活性粒子的作用下,材料的表面性質將會發生改變。等離子體的特點是:(1)它對材料表面的作用深度僅數百埃,不會影響基體材料的性質;(2)能夠處理各種形狀的表面;(3)有較強的殺菌作用。正是由于低溫等離子體的獨特性,近幾年在材料表面改性中已經引起人們越來越多的注意和興趣。

　　近十幾年來,低溫等離子體廣泛用于改變金屬材料的表面力學性能,即材料的磨損、硬度、摩擦、疲勞、耐腐蝕等性能。

等離子體系統是典型的后端封裝步驟之前的晶圓加工以及晶圓扇出，晶圓級封裝，3D封裝，倒裝芯片和傳統封裝的理想選擇。腔室設計和控制架構可實現短時間的等離子體循環時間，同時具有非常低的開銷，確保您的應用的吞吐量化，并將所有權成本降至。等離子清洗機支持從75mm到300mm的圓形或方形晶片/基板尺寸的自動化處理和處理。此外，根據晶片厚度，有或沒有載體的薄晶片處理是可能的。等離子體室設計提供的蝕刻均勻性和工藝重復性。初級等離子體應用包括各種蝕刻，灰化和除塵步驟。其他等離子體工藝包括污染去除，表面粗糙化，增加的潤濕性，以及增強粘結和粘附強度，光致抗蝕劑/聚合物剝離，電介質蝕刻，晶片凸起，有機污染物去除和晶片脫模。晶圓清洗 - 等離子體系統在晶圓碰撞前清除污染物，清除有機污染物，除去氟和其他鹵素污染物，并除去金屬和金屬氧化物。等離子體還改善了旋涂膜的附著力并清洗了金屬接合墊。

 PCB的等離子體系統除硅片，用于再分布，剝離/蝕刻光刻膠的圖形電介質層，增強晶片應用材料的附著力，去除多余的晶片施加的模具/環氧樹脂，增強金焊料凸塊的粘附力，使晶片降低破損，提高旋涂膜附著力和清潔鋁鍵合墊。