顯影液特性滿意的選擇「諾泰盈電子」

蘇州工業(yè)園區(qū)諾泰盈電子有限公司是一家專業(yè)從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料及各種雙面膠材料深加工的企業(yè)。

主要產(chǎn)品有：導光膜/銅鋁箔/導電雙面/導電布/鈹銅彈片/吸波材/導電泡棉/PET/PP/PE/EVA/CR/PORON/RUBBER/硅膠片及各種相面膠帶材料的模切加工。

顯影液參數(shù)

當溫度22℃，顯影時間為60秒時，PD型顯影液濃度對PS版性能的影響見表1（略）。從表中數(shù)據(jù)可看出，以3級干凈為準的曝光量，PD型顯影液濃度以1∶6為佳。 當顯影液濃度過大時，往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制；特別是它對圖文基礎的腐蝕性增強，容易造成網(wǎng)點縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點丟失及減薄涂層，從而造成耐印力下降等弊病；同時空白部位的氧化膜和封孔層也會受到腐蝕和破壞，版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象，使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大，還易有結晶析出。顯影液組成成分的作用與顯影液的配方普通顯影液有時也稱為通用顯影液，其特點是具有中等活性，即可用于沖洗底片感光材料，又可用于沖洗正片感光材料。 當顯影液的濃度偏低時，堿性弱，顯影速度慢，易出現(xiàn)顯影不凈、版面起臟、暗調(diào)小白點糊死等現(xiàn)象。

顯影液用途

通過對各組分不同用量的調(diào)配可以得到不同性能的顯影液，如微粒顯影液、高反差顯影液等。工業(yè)上說的顯影劑，是針對半導體晶片而言。系列有顯影劑、光刻膠等。

常見問題

a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。由顯影液不足造成。

顯影液組成成分的作用與顯影液的配方

甘氨酸是作用極慢的，可洗出軟影調(diào)低反差的底片，能夠很好地表現(xiàn)陰影部位上的細部，而灰霧度很小。甘氨酸可用作制備微粒顯影用平衡顯影液。甘氨酸不易溶于水，而易溶于堿性溶液中。顯影液組成成分的作用與顯影液的配方實際應用的顯影液的氫離子指數(shù)PH值為7(中性溶液)至12。長期以來，一直使用休貝爾濃縮液， 這是甘氨酸顯影液的濃縮溶液，很易于貯存。甘氨酸常被 用來與米吐爾、二酚及菲尼酮配合使用。

在各種溶液中，菲尼酮的量可比米吐爾低數(shù)倍，因此有菲尼酮的顯影液是經(jīng)濟的。但是，含有菲尼酮的顯影液的重要特點是，它能夠提高被顯影感光材料的感光度。用菲尼酮顯影液可以使某些乳劑的感光度比用普通顯影液提高2-5倍。顯影液組成成分的作用與顯影液的配方土吐爾與二酚相配合可作成通用顯影液，沖洗底片和正片對氨基酚用作在弱堿溶液中作為軟影調(diào)顯影物質(zhì)。菲尼酮顯影液的特點是，在不加進防灰霧物質(zhì)就有很低的灰霧度，并且，可以較長時間存放。非尼酮顯影液是應用廣泛的。