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       真空鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術性，在真空泵房間內原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進被鍍物件的表層上。該項技術性用以生產制造光學激光鏡片，如遠洋航行望遠鏡鏡片等；后拓寬到別的作用塑料薄膜，游戲設備鍍鋁膜、裝飾設計鍍膜和原材料表層改性材料等，納米鍍膜生產商，如腕表機殼鍍仿金黃，機械設備數控刀片鍍膜，更改生產加工紅強制。真空鍍膜有三種方式，即揮發鍍膜、磁控濺射鍍膜和等離子噴涂。真空鍍膜的作用是各個方面的，這也決策了其運用場所比較豐富。整體而言，真空鍍膜的關鍵作用包含授予被鍍件表層高寬比金屬質感和鏡面玻璃實際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導電性實際效果。

       真空鍍膜技術性被稱作發展前景的關鍵技術性之一， 鍍膜企業并已在高新技術產業發展的發展趨勢中展示出的行業前景。

       真空涂層技術發展到了今天還出現了PCVD(物理化學氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學氣相沉積)等新技術，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統的DC電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。可見，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優劣，為了盡可能地發揮它們各自的優越性，實現互補，將多弧技術與磁控技術合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達到終穩定的表面涂層顏色的新方法。

       首先給大家解釋一下為什么是叫納米鍍膜液，其實這個稱呼是市場上大家自發形成的一種叫法，因為該產品在手機屏幕表面附著后，是一層透明的并且是納米級的膜層，所以叫納米鍍膜液是比較符合該產品的特征，另外，這個產品表面附著的原理是通過分子結構的反應附著，提升一定致密度，那么，做過和未做前后大的區別是什么呢？，做過鍍膜的會有疏水疏油，也就是說有防污易潔的效果，市面上有些人會拿大頭筆去畫線來判斷該功能性；第二，做過鍍膜后有很好的爽滑手感，對使用手機玩游戲時有較好的體驗感；第三，做過鍍膜后，并不會因為膜層影響清晰度和透明度；以上兩幾點是我個人認為較大的差異，至于有人拿錘子砸，拿刀片劃等等，這個我個人認為是有的嫌疑。