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發布時間:2020-12-21 20:52  
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刻蝕機目前國際上主要的供應商為應用材料、LamResearch等。中國方面技術有慢慢追上的趨勢,即將登錄科創板的中微半導體,其自主研發的5nm等離子體刻蝕機經臺積電(2330-TW)驗證,將用于全球首條5nm制程生產線。而北方華創則是在14nm技術有所突破。市場預估今明兩年中國刻蝕機需求分別達15億美元與20億美元。 拋光:可以使晶圓表面達到性的平坦化,以利后續薄膜沉積工序。美國應用材料、Rtec等均為國際上主要供應商,中國則有中電科裝備、盛美半導體等。但陸廠的產品才剛打入8寸晶圓廠中,12寸的相關設備還在研發,明顯與國際大廠有實力上的差距。市場預計今明兩年中國拋光機需求將達3.77億美元與5.11億美元。
水平連續電解蝕刻機,針對不銹鋼、鋁及鋁合金、鋼鐵等金屬材質之板材或帶材進行水平連續電解蝕刻加工,與傳統三氯化鐵化學蝕刻機相比,淘汰了污染的三氯化鐵等化學蝕刻液,環保性是其突出的優越點;加工質量與效果比傳統化學的更白更細膩;加工成本比傳統化學低些。LE60 機型適合于600mm寬度發下的小尺寸板帶的加工,比如不銹鋼、鋁等等標牌加工等。我司同時提供成套的前后工藝裝備。