臨沂六氟化硫制備規格齊全 江蘇凱美電子材料

六氟化硫是一種無色、無臭、無毒、不燃的惰性氣體，它的分子量為146.07，在20℃和0.1 MPa時密度為6.1kg/m3，約為空氣密度的5倍。還可以金屬氧化物為催化劑于300℃下用空氣氧化四氟化liu，或者在500～2000℃使氟化硫熱解。六氟化硫在常溫常壓下為氣態，其臨界溫度為45.6℃，三相點溫度為-50.8℃，常壓下升華點溫度為-63.8℃。

儲存注意事項：儲存于陰涼、通風的庫房。遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應與易（可）燃物、氧化劑分開存放，切忌混儲。儲區應備有泄漏應急處理設備。

純凈的SF6氣體雖然無毒，但在工作場所要防止SF6氣體的濃度上升到缺氧的水平。SF6氣體的密度大約是空氣的五倍、SF6氣體如有泄漏必將沉積于低洼處，如電纜溝中。濃度過大會出現使人窒息的危險，設計戶內通風裝置時要考慮到這一情況。

　　在電弧作用下SF6的分解物如SF4，S2F2，SF2，SOF2，SO2F2，SOF4和HF等，它們都有強烈的腐蝕性和毒性。因此在電力系統GIS等應用SF6的工作場所，要加裝SF6氣體泄漏監測設備。

紅外光譜技術（IAC510）

紅外光譜吸收技術(又稱激光技術）的原理是SF6作為溫室氣體，對特定波段的紅外光有很強烈的吸收特性。隨后進行純化，使產物氣化并通過10%的KOH熱溶液（不用NaOH）洗滌除去其中的雜質（HF，SF2，SF4，SOF2，S2F10）。紅外光譜技術的特點是成本高，結構復雜，靈敏度高，不受環境的影響和干擾，對環境的溫度和濕度的變化所帶來的檢測誤差很小，由于其是采用主動抽取測試點氣體的原理，帶來的效果是發現泄漏早，反應迅速。同時系統結構對工程實施中的布線也帶來了很大的方便。

高純六氟化硫的應用

 六氟化硫的使用可以增加設備運行的安全性、縮小設備體積、延長設備壽命。近幾年，國家大力發展基礎電力行業，給六氟化硫廠家帶來了很大的市場機遇。

高純六氟化硫(純度在99.99%以上)，國內需求非常旺盛，而且附加值較高。

 高純六氟化硫主要用于半導體工業中作清洗氣體。

 六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一，近年來，各公司以廉價的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術正被廣泛研究。

 該技術在大幅降低液晶產品加工中占相當比例的CVD氣體成本的同時，還顯示出了極i佳的環保前景，近年來用量有明顯的提高。

 據權i威機構預測，2010年我國將成為僅次于美國的世界第二大集成電路市場，總需求量約為500億美元。目前國內使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產線約有50條左右預計。2016年將達到700噸左右，

 國內使用六氟化硫作為蝕刻氣的生產線有近50條，在未來的五年預計將有20條至30條新線建成。而國內高純六氟化硫產品遠遠不能滿足市場需求，半導體廠家所用高純產品大部分依賴進口，這給高純六氟化企業提供更多的發展機遇。每年約消耗高純六氟化硫為600噸左右。而國內高純六氟化硫產品遠遠不能滿足市場需求，半導體廠家所用高純產品大部分依賴進口，這給高純六氟化企業提供更多的發展機遇。