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發布時間:2020-12-08 14:19  
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電子束蒸發鍍膜機的用途
電子束蒸發沉積鍍膜設備,具有有機材料沉積和金屬材料沉積成膜功能。它是在高真空條件下,通過加熱材料的方法,在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜,在襯底上沉積各種金屬或合金電極并形成器件。期望大家在選購電子束產品時多一份細心,少一份浮躁,不要錯過細節疑問。可用于鍍半導體、金屬膜,氧化物、納米級單層及多層功能膜的連續沉積.
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電子束蒸發鍍膜機設備性能介紹
沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業生產、銷售電子束產品,我們公司堅持用戶為上帝,想用戶之所想,急用戶之所急,以誠為本,講求信譽,以產品求發展,以質量求生存,我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創輝煌。
設備性能技術指標:
1、設備極限真空度:5×10-5Pa(電子槍靜止狀態)。
2、設備總體漏放率:關機12小時后,真空度≤8Pa。
3、從大氣到抽到≤9×10-4Pa,40min(新設備充干燥氮氣),提高了工作效率。
4、真空漏率:≤10-7Pa.l/s
電子束鍍膜機介紹
* 帶旋轉的傾斜沉積
* 行星式基片夾具
* 基片RF/DC偏壓
* 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍
* 附加物理沉積源(熱蒸鍍,磁控濺射)
* 用于反應蒸鍍的MFC
* 不同的泵組選擇,可升級分子泵為冷泵,前級泵為干泵
* 進樣室和自動上下片/可支持單片和25片片夾
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