鋁合金微弧氧化現象廠家供應【日照微弧技術】

       日照微弧氧化技術有限公司為你您講解微弧氧化先關內容。微弧氧化技術又稱微等離子體氧化或陽極火花沉積，實質上是一種高壓的陽極氧化，是一種新型的金屬表面處理技術。微弧氧化多孔層可作為頂漆的攜帶層，這樣既可滿足必要的硬度和負載要求，又可作為基體金屬的一個強有力的防護屏障，同時還保證表面復合物材料對于基體良好的粘合性。另外，也可用PVD、CVD和溶膠凝膠等對微弧氧化膜層進行封孔處理，提高膜層的致密度和表面光潔度。日照微弧氧化電源、微弧氧化、微弧氧化生產線、微弧氧化設備、微弧氧化技術

微弧氧化封孔處理

       由于微弧氧化陶瓷層表面分布著大量的微孔放電通道，腐蝕介質能通過孔隙浸入鎂合金基體產生腐蝕，在微弧氧化后對鎂合金表面進行封孔處理，在孔隙的吸附作用下，封孔劑循著這些微孔或裂紋進入并填充，降低氧化膜的孔隙率，使外層疏松層逐漸變得致密，膜層與基體結合良好，復合膜層具有更加致密和均勻的微結構，腐蝕電位正移，腐蝕電流密度降低，腐蝕電阻增大，進一步提升了MAO陶瓷層的耐蝕耐磨能力，同時可以增加膜層的色澤，改善膜層的美觀性，或為其他膜層和結構材料的制備提供優良的襯底。那些用材料制成、在高精尖科技儀器上發揮關鍵作用的精密零部件，其使用壽命往往直接影響設備的使用壽命。

微弧氧化膜層的性能能夠達到何種程度？

       一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。另外，也可用PVD、CVD和溶膠凝膠等對微弧氧化膜層進行封孔處理，提高膜層的致密度和表面光潔度。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因為從生成物來看，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鋁表面氧化膜硬度高可以達到HV3000。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結合力，對膜層整體性能不利。因此，一般很少單獨強調某種性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調制，在滿足特殊需求的基礎上使膜層整體具有良好性能。如，某鎂合金需要耐蝕，可以根據需求對膜層厚度、溶液成分等進行調制，滿足耐蝕400小時、600小時等特殊需求。