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光氧催化廢氣處理原理

光氧催化廢氣處理設備技術利用光激發氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4、等難降解物質。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協同效應，使H2O2分解產生羥基自由基的速率大大加快，促進有機物的氧化去除。應用于工業廢氣治理中的紫外線波長為154nm-254nm，波長越短能量越大。在這個波長區域中，由于154nm-185nm的波長相對比較短所以“殺傷”的空間范圍也較小。而185nm-254nm盡管波長較長但是殺傷空間范圍相對較大。

光氧催化設備可以治理哪些廢氣

光氧催化設備主要可以治理以下多種廢氣：

VOC（揮發性有機物）主要包括苯、甲b、二甲b、、三、三氯j烷、三氯1烷、二異q酸酯、二異q甲b酯等和揮發性惡臭氣體如不飽和烴（如丁二烯、）、氮化物（如氨、甲j胺、糞臭素）、硫化物（如硫化q、硫化甲j）、氯烴（如l仿）、含氧烴（如b酮）、植物精油（如）等化合物。

惡臭污染物質大多是氣相污染物，主要由碳、氫、氧、氮、硫、鹵素等元素構成。就化學結構而言，臭味物質分子多因具剩余電子，而有刺激人類嗅覺的特性。

廢氣處理技術目前分為物理、化學、生物等三大類，一般可用單一技術或兩種以上技術組合來完成單一臭氣處理工作。常用的物理法是活性碳吸附或酸堿水洗噴淋，化學法是化學洗滌、焚化，生物法則包括生物洗滌、植物液噴灑、生物滴濾、生物濾床等，而在物理法除臭技術上，又研發出了等離子體法除臭。

而采用254nm波長 185 nm波長雙波段g效紫外線燈來處理廢氣在近兩年由國外傳至國內，目前在國內也得到廣泛應用。本質一是應用了紫外線燈UVD185納米波段和O2結合產生的O3臭氧來氧化還原反應廢氣，二是利用185納米短波紫外線的高能量來裂解有機廢氣，三是利用254納米紫外線照射涂有TIO2的媒介產生-OH來氧化有機廢氣。

使用時有什么注意事項？

根據風量和停留時間設計UV光解裝置的長度，不是只要安裝上就能夠起到凈化效果的；

加強對進入光氧裝置的廢氣的預處理，對于顆粒物含量高、有機分子鏈過大的廢氣，進行除塵或噴淋的預處理，避免光氧裝置被灰塵或大鏈油脂裹覆，影響凈化效率；

為避免UV光解裝置產生臭氧對環境空氣的影響，在UV光解裝置末端或后面單獨建設O3湮滅裝置。

光催化設備主要包含兩個重要的部分，一是光源，二是光催化劑。其具體的作用機理是光源發出的光照射到光催化劑上使電子發生躍遷，通過與吸附氧作用生成具有較強氧化性的活性氧，從而氧化清除表面有機物或者細菌。病毒離開宿主后，不可能長時間在空氣中漂浮并保持活性。因而，空氣中病毒濃度必然極低。利用光催化設備實現空氣中新型冠狀病毒滅殺恐難以達到效果。