肇慶特種燈具反光杯注塑歡迎來電 錦城鍍膜公司

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真空鍍膜之磁控濺射鍍膜 ：

電子的運動路徑不僅很長，而且被電磁場束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，在該區中電離出大量的離子用來轟擊靶材，從而實現了磁控濺射沉積速率高的特點。隨著碰撞次數的增加，電子的能量逐漸降低,同時逐步遠離靶面。大部分是離子和熔融粒子,在偏壓作用下,離子流在基體上凝聚成金屬、合金或化合物薄膜。低能電子沿著磁力線來回振蕩，待電子能量將耗盡時，在電場的作用下終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳給基片的能量很小，致使基片溫升較低。由于磁極軸線處電場與磁場平行，電子將直接飛向基片。但是在磁控濺射裝置中， 磁極軸線處離子密度很低， 所以這類電子很小，對基片溫升作用不大。

機械零件的失效多數是因為表面發生磨損、腐蝕。這類鍍膜劑所標稱的耐久性也僅相當于樹脂涂層的耐久性，根本無法與不會學化的純無機糖瞄相捏并論。人們早就認識到，通過改變零件表面的成分結構，能有效的改變零件的性能，延長其壽命。闡述了幾種常見鍍膜工藝的特點，進行工藝比較，結合當前的實際應用對鍍膜的應用做了一定的歸納和總結，對未來鍍膜工藝進行展望。

物理q相沉積法真空鍍膜技術（由于這種方法基本上都是處于真空環境下進行的，因此稱它們為真空鍍膜技術）。真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。

真空鍍膜技術是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。