多弧離子鍍膜機優(yōu)惠報價「在線咨詢」

真空鍍膜設(shè)備_磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)應(yīng)用

蒸發(fā)和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機的一切優(yōu)點，又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實現(xiàn)自動生產(chǎn)線，是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設(shè)備。本機鍍部分產(chǎn)品可不做底油。

真空鍍膜設(shè)備機主要特點配用改進型高真空排氣系統(tǒng)，抽速快、、節(jié)電、降噪和延長泵使用壽命;實現(xiàn)蒸發(fā)、磁控濺射、自動控制，操作簡單，工作可靠;蒸發(fā)鍍應(yīng)用新型電極引入裝置，接觸電阻小且可靠;磁控濺射應(yīng)用鍍膜材料廣泛，各種非導(dǎo)磁的金屬、合金均可作鍍料;結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小;磁控、蒸發(fā)共用兩臺立式工件車，操作方便。

(或雙門蒸發(fā)、磁控兩用機)至成真空科技業(yè)務(wù)范圍真空鍍膜成套設(shè)備與技術(shù)，真空工程用各種泵、閥、真空計、油、脂、密封件，真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。

真空鍍膜設(shè)備故障診斷與排除、老產(chǎn)品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術(shù)研究，咨詢服務(wù)。新技術(shù)、新設(shè)備、新工藝至成真空科技新開發(fā)的磁控、蒸發(fā)多用鍍膜機，配用改進型高真空抽氣系統(tǒng)及全自動控制系統(tǒng)，抽速快、、操作簡單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點;是鍍制金屬、合金及化合物膜的理想設(shè)備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應(yīng)用在光學(xué)、電子、通訊、航空等領(lǐng)域。

光學(xué)真空鍍膜機薄膜根據(jù)其用途分類、特性與應(yīng)用可分為哪些膜

光學(xué)真空鍍膜機薄膜根據(jù)其用途分類、特性與應(yīng)用可分為：反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補償膜/相位差板、配向膜、擴散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關(guān)衍生的種類有光學(xué)級保護膜、窗膜等。

光學(xué)真空鍍膜機光學(xué)薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，起表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各種向異性;膜層具有復(fù)雜的時間效應(yīng)。

真空鍍膜機磁控濺射主要工藝流程：

1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，隨后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；

2、抽真空，真空須控制在2×104Pa以上，以保證薄膜的純度；

3、加熱，為了除去基片表面水分，提高膜與基片的結(jié)合力，需要對基片進行加熱，溫度一般選擇在150℃~200℃之間；

4、Ar氣分壓，一般選擇在0.01~1Pa范圍內(nèi)，以滿足輝光放電的氣壓條件；

5、預(yù)濺射，預(yù)濺射是通過離子轟擊以除去靶材表面氧化膜，以免影響薄膜質(zhì)量；

6、濺射，Ar氣電離后形成的正離子在正交的磁場和電場的作用下，高速轟擊靶材，使濺射出的靶材粒子到達基片表面沉積成膜；

7、退火，薄膜與基片的熱膨脹系數(shù)有差異，結(jié)合力小，退火時薄膜與基片原子相互擴散可以有效提高粘著力。

真空鍍膜機磁控濺射鍍膜的特點：薄膜純度高，致密，厚度均勻可控制，工藝重復(fù)性比較好，附著力強。

依據(jù)濺射源的不同，真空鍍膜機磁控濺射有直流和射頻之分，兩者的主要區(qū)別在于氣體放電方式不同，真空鍍膜機射頻磁控濺射利用的是射頻放電，陶瓷產(chǎn)品使用的是射頻磁控濺射鍍。

多弧離子真空鍍膜機工藝如何運用到刀具行業(yè)

很多人對多弧離子真空鍍膜機其實并不太了解，更不了解鍍膜設(shè)備的工藝如何運用到刀具行業(yè)，很多客戶都有這樣的疑惑，也經(jīng)常會問我們這方面的問題，特別是對真空設(shè)備的愛好者，今天至成真空小編為大家詳解介紹一下多弧離子真空鍍膜機工藝如何運用到刀具行業(yè)。

為了滿足鍍膜制和各種多層薄膜及復(fù)合化合物薄膜的要求，多功能多弧離子鍍膜已成為目前研究發(fā)展的方向。多弧離子鍍膜設(shè)備采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光輝點放出的陰極物質(zhì)的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。多弧離子鍍膜采用孿生靶的先進技術(shù)，克服直流濺射固有的打火等不良弊病，使鍍件的耐蝕性能又有所提高和改善。

多弧離子鍍膜的中心安裝柱狀多弧靶，靶材為鈦或鋯。它不但能保持多弧技術(shù)離化率高、沉積速率高的特點，還能有效地降低平面多弧靶沉積過程中很難避免的“液滴”的缺陷，從而可以制備出低孔隙率的金屬薄膜或化合特薄膜；在周邊安裝了孿生平面磁控靶，靶材為鋁或硅；中外，在周邊安裝多個平面多弧蒸發(fā)源，靶材為鉻或鎳，可以鍍制多層金屬膜和多層復(fù)合膜。復(fù)合式離子鍍膜設(shè)備由于具有多種不同形式鍍膜裝置及不同材質(zhì)的蒸發(fā)源及發(fā)射靶，它們既可以獨立地分別工作又可以同時工作，既能制備純金屬膜又能制備金屬化合物膜或復(fù)合材料膜；既能制備單層薄膜又能制備多層復(fù)合膜，用途極其廣泛。