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發布時間:2021-07-30 08:04  
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隨著全球制造業高速發展,真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業的發展來看,對真空鍍膜設備、技術、材料需求都在不斷增加,包括制造大規模集成電路的電學膜;數字式縱向與橫向均可磁化的數據紀錄儲存膜;充分展示和應用各種光學特性的光學膜;計算機顯示用的感光膜;TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜;建筑、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領域用防護膜、阻隔膜;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。
真空鍍膜設備主要由真空腔、抽氣系統、蒸發系統、成膜控制系統等組件構成。
真空鍍膜設備選購要點分析如下:
根據工藝要求選擇不同規格及類型的鍍膜設備,其類型有電阻蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、磁控反應濺射、離子鍍、多弧離子鍍等。
真空系統由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。
真空鍍膜設備是制作真空條件應用較為廣泛的一種設備。
真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。真空鍍膜設備若有灰塵,將會影響真空鍍膜的效果和質量。首先,被鍍膜材料表面肯定是有灰塵的,在盡量減小材料表面灰塵的前提下。
真空鍍膜機薄膜監控目前應用方式比較多,主要有:目視監控法,定值監控、水晶振蕩監控、時間監控等等。
根據加工產品要求的各異,真空腔大小不同,腔體由不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅實等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。
蒸發系統主要是指成膜裝置部分,鍍膜機器的成膜裝置很多,有電阻加熱、電子槍蒸發、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式。
一臺完整的真空鍍膜機是由多部分系統組成的,每個系統可以完成不同的功能。