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發布時間:2020-11-09 07:47  
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微弧氧化
微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等,是通過電解液與相應電參數的組合,在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用,原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中,化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。溶液溫度為20~度為20~50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化生產線。
微弧氧化設備
微弧氧化設備有熱交換和制冷設備。由于微弧氧化過程中工件表面具有較高的氧化電壓并通過較大的電解電流,使產生的熱量大部分集中于膜層界面處,而影響所形成膜層的質量,因此微弧氧化必須使用配套的熱交換制冷設備,使電解液及時冷卻,保證微弧氧化在設置的溫度范圍內進行。可將電解液采用循環對流冷卻的方式進行,既能控制溶液溫度,又達到了攪拌電解液的目的。微弧氧化原理是將Al、Mg、Ti等輕金屬或其合金置于電解質水溶液中作為陽極,利用電化學方法在該材料的表面產生火花放電斑點,在熱化學、等離子體化學和電化學的共同作用下,獲得金屬氧化物陶瓷層的一種表面改性技術。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術
微弧氧化膜的性能特點
1. 硬度極高,可達1500-2000HV.比一般陽極氧化或電鍍處理高許多;
2. 耐磨性;
3. 耐腐蝕性好,耐中性鹽霧可達2000h以上;
4. 絕緣性能良好;
5. 附著力良好,將工件加熱至300℃,立即浸入冷水中,反復數次都未發現氧化膜掉落。微弧氧化技術、微弧氧化設備、微弧氧化生產線、微弧氧化電源的好處、微弧氧化廠家