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              低壓化學氣相沉積詢問報價

              發布時間:2020-07-30 18:56  

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               真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要,直接影響到電鍍的產品品質。加工件進入鍍膜室前一定要做到認真的鍍前清潔處理,表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、 機油、拋光膏、油脂、汗漬等物,為了避免加工過程中造成的不良,真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學清冼方法將其去掉。真空鍍膜技術一般分為兩大類,即物理氣相沉積(PVD)技術和化學氣相沉積(CVD)技術。

              塑料在真空鍍膜前為何要涂層?       

              大多數塑料在真空鍍膜之前,一般先要涂覆底涂層,主要原因是有以下幾點:

               一:塑料在成型后,表面肯定有的粗糙度,比如有0.5um的粗糙度。

              真空鍍膜層很薄,很難掩蓋基材表面的凹凸不平,如果采用底涂技術,光固化涂層厚度約10~20um,涂層自身粗糙度在0.1um以下,因此可大大提高鍍層的光亮度。




              真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

              真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。不斷小型化的電子產品對絕緣涂層的性能提出了更高的要求,部分原因是涂層機械體積與電路功能之間的關系,絕緣性涂層更重要的特點是涂敷的完整性和均勻性,以及它在物理、電氣、機械、屏蔽方面的性能。




              真空鍍膜的方法很多,計有:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如)通入已抽空的室內,保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發輝光放電,帶正電的離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍:實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合,兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優缺點。目前國內常用兩種方法進行防護,一種是傳統的電鍍工藝在鐵硼磁性材料表面鍍上鎳、鋅或錫、金等。




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