十萬級凈化車間服務至上「安徽科林爾」

潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間"凈化工程在設計時，無論是新建還是重新改造的凈化車間，都一定依照國家相關標準、規范進行。在實際施工中，凈化項目通常分為專業，分工和分時。 這種安排有利于各種專業和工作類型的管理。 但是，易于進行多塵和無塵的交叉操作，應盡可能避免這種結構布置。 如果不可避免，應該防止灰塵和有效清潔。

具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規模集成電路生產的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間"1級：主要應用于電子工業，這是目前對凈化工程要求高的環境，集成電路要求的精度要達到亞微米。隨著微電子工業技術領域的突飛猛進，對潔凈室的要求越來越高。及時生產間內的例子直徑僅有1微米，也會使產品壽命受到影響。

10級：主要用于帶寬小于2微米的半導體工業。其空氣凈化要求僅次于1級，并且我國半導體技術也在發展之中，在未來對潔凈度的要求更加高。一般潔凈室高度控制在2.60米，對個別較高的設備可在局部加高，而不宜提高潔凈區的高度。凈化工程在設計時，無論是新建還是重新改造的凈化車間，都一定依照國家相關標準、規范進行。

濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產溫度范圍為35—45%。凈化工程在設計時，無論是新建還是重新改造的凈化車間，都一定依照國家相關標準、規范進行。