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發布時間：2021-09-13 21:40
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硅片模具加工如何選擇光刻膠呢？
注意事項：
①若腐蝕液為堿性，則不宜用正性光刻膠；
②看光刻機型式,若是投影方式,用常規負膠時氮氣環境可能會有些問題
③負性膠價格成本低，正性膠較貴；
④工藝方面：負性膠能很好地獲得單根線，而正性膠可獲得孤立的洞和槽；
⑤健康方面：負性膠為有機溶液處理，不利于環境；正性膠屬于水溶液，對健康、環境無害。
以上內容由賽米萊德為您提供，希望對同行業的朋友有所幫助！
光刻膠的作用有什么？
光刻是將圖形由掩膜版上轉移到硅片上，為后續的刻蝕步驟作準備。在光刻過程中，需在硅片上涂一層光刻膠，經紫外線曝光后，光刻膠的化學性質發生變化，在通過顯影后，被曝光的光刻膠將被去除，從而實現將電路圖形由掩膜版轉移到光刻膠上。再經過刻蝕過程，實現電路圖形由光刻膠轉移到硅片上。在刻蝕過程中，光刻膠起防腐蝕的保護作用。
光刻膠的應用
光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，特別是近年來大規模和超大規模集成電路的發展，更是大大促進了光刻膠的研究開發和應用。印刷工業是光刻膠應用的另一重要領域。
期望大家在選購光刻膠時多一份細心，少一份浮躁，不要錯過細節疑問。想要了解更多光刻膠的相關資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話！！！
