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              發布時間:2020-12-12 10:37  

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              鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內,大多數金屬的反射率都可達到78%~98%,但不可高于98%。無論是對于CO2激光,采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡,采用鍺、chen化jia、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學元件材料,還是對于YAG激光采用普通光學玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學元件材料,都不能達到全反射鏡的99%以上要求。 次數用完API KEY 超過次數限制



              隨著高科技及新興工業發展,物理氣相沉積技術出現了不少新的先進的亮點,如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術,大型矩形長弧靶和濺射靶,非平衡磁控濺射靶,孿生靶技術,帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術,條狀纖維織物卷繞鍍層技術等,使用的鍍層成套設備,向計算機全自動,大型化工業規模方向發展。第二節真空蒸鍍(一)真空蒸鍍原理(1)真空蒸鍍是在真空條件下,將鍍料加熱并蒸發,使大量的原子、分子氣化并離開液體鍍料或離開固體鍍料表面(升華)。 次數用完API KEY 超過次數限制



              在信息存儲領域中薄膜材料作為信息記錄于存儲介質,有其得天獨厚的優勢:由于薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉極為迅速;與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。為了更精密地記錄與存儲信息,必然要采用鍍膜技術。13.在傳感器方面在傳感器中,多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說,極為敏感的半導體材料。此外,其中,大多數利用的是半導體的表面、界面的性質,需要盡量增大其面積,且能工業化、低價格制作,因此,采用薄膜的情況很多。14.在集成電路制造中晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶硅、鋁、銅及其合金)等,多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見,氣相沉積是制備集成電路的核心技術之一。 次數用完API KEY 超過次數限制


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