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發布時間:2021-01-07 16:47  
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1.陰極效率低,鍍層薄;2.電化當量小只有酸性浴的一半,耗電量大;3.需使用在熔融技術得到光澤鍍層;4.操作溫度高,需加熱設備;5.操作浴壓較高;6.需使用可溶性陽極;7.操作可溶性陽極鍍浴要很小心,否則容易得到不良鍍層。硫酸鹽光亮鍍錫液成分簡單,主要有硫酸亞錫、硫酸、光亮添加劑、穩定劑等成分。硫酸亞錫含量高時可用較大的電流密度,使沉積速度加快,含量過高會使鍍錫層粗糙。含量低時,允許的陰極電流密度降低,鍍層容易燒焦,對形狀簡單的零件可用硫酸亞錫含量低一些的鍍液。但是由于氯離子的弱酸性對設備有一定的腐蝕性,一方面會對設備造成一定的腐蝕,另一方面此類鍍液不適應需加輔助陽極的深孔或管狀零件。


80年代,歐美等工業化國家在化學鍍技術的研究,開發和應用得到了飛躍發展,平均每年有15–20%表面處理技術轉為使用化學鍍技術,使金屬表面得到更大的發展,并促使化學鍍技術進入成熟時期。為了滿足復雜的工藝要求,解決更的技術難題,化學鍍技術不斷發展,引入多種合金鍍層的化學復合技術,即三元化學鍍或多元化學鍍技術,得到了一些成果。雖然我國起步較晚,但也處于迅速發展階化學鍍中,金屬的沉積和在基底表面上的鍍覆過程不同于電鍍,工藝過程無需外界供給電能,而是依賴于鍍液中發生的氧化還原反應將欲鍍覆金屬離子還原為單質而沉積在基底表面。






