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真空鍍膜設備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。平常我們還應當注意以下幾點：

1、真空鍍膜設備使用一段時間后，必須要對設備進行清潔維護；

2、保證設施設備及操作環境清潔。如材料、樣品放置地環境要求，環境溫度濕度要求等；

3、降低真空鍍膜設備室內空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術。能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。從蒸發源到基片的屬距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。

真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類。

真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜機常見問題：真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜機其工作原理是在真空狀態下，使用弧光放電和輝光放電的工作原理。在金屬和非金屬的工件表面上鍍制金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等。由于灰塵對鍍膜效果會產生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設備中留下灰塵，應該在使用中注意以上幾點來盡量避免，除此也要注意經常清洗，避免灰塵越積越多。亦可鍍防腐蝕膜（如AL,Cr不銹鋼及TiN等）和耐磨膜，膜層與基底結合牢固，利用濺射工藝進行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復性、致密度、均勻度等特點。適合于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建材等行業，具有很好的發展前景。