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              無錫不銹鋼抗指紋板廠信息推薦「無錫拓龍科技」

              發布時間:2021-08-19 19:34  

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              視頻作者:無錫拓龍科技發展有限公司






              有通用的平面研磨機?

              1.本平面研磨機為精密研磨設備,被研磨產品放置于研磨盤上,研磨盤逆時鐘旋轉,工件自己轉動,用重力加壓的方式對工件施壓,工件與研磨盤作相對旋轉磨擦,來達到研磨目的。  

              2.修盤機采用油壓懸浮導軌,配合金剛石修面刀對研磨盤進行精密修整,使研磨盤得到精密的平面度。  

              設備特點:

              1、變頻控制,實現軟啟動,軟停機,沖擊力小,減少工件損傷。

              2.系列研磨機采用PLC程序控制,觸摸屏操作面板,研磨盤轉數與定時與研磨時間可以直接在觸摸屏上輸入、速度可調,操作方便。

              3、采用進口軸承,電機,確保設備的穩定性和 壽命,確保工件的精密要求。

              4、研磨機工件加壓采用壓重塊自重加壓,拋光后工件表面光亮度高、無劃傷、無劃痕、無料紋、無麻點、不塌邊、平面度高等特點。拋光后工件表面粗糙度可達到Ra0.0002;平面度可控制在±0.002mm范圍內。



              在模具拋光中,工藝相對復雜,流程可以分為粗拋、半精拋、精拋幾步。模具拋光主要用機械拋光來進行是為了得到更好的產品質量與加工精度,而且相對于其它工藝,在成本上也相對廉宜。

              在拋光的過程中,應該分開在兩個工作地點來完成粗拋加工和精拋加工,而且要注意清洗干凈上一道工序殘留在工件表面的砂粒。一般從油石到1200#砂紙完成粗拋光后,工件需轉移到無塵間進行拋光,確保空氣中無灰塵微粒粘在模具表面。如果要進行更為精密的高精密拋光或者超精密拋光,則必須在潔凈的空間內。拋光屬于用微細磨粒進行的切削加工,因此拋光過程會產生微小的劃痕,生成細微的切屑。

              在拋光工藝完成后,工件表面要做好防護工作,避免工件表面遭到損壞。當拋光過程停止時,應仔細去除所有研磨劑和潤滑劑,保證工件表面整潔,隨后應在工件表面噴涂一層模具防銹層。



              與石材磨拋相關的環節和工藝可分為工廠磨拋和維護磨拋,或者大磨拋和小磨拋。在工廠這個環節里既有大磨拋也有小磨拋。這個環節對石材進行的初始研磨和拋光都是在自動化和專業化較高的大型設備條件下進行的,所以我們稱之大拋光。一般來說這種條件下石材得到的光澤。當然,受到一些因素的制約,在工廠里也會使用一些小型的設備和工具對石材進行打磨拋光,我們稱之小拋光。例如,板材破損的修補,異形的處理,線條的處理等。維護磨拋,是指在石材后期安裝和應用過程中對石材光澤進行再處理。例如,安裝現場石材破損的修補,平整度的處理,劃傷和磨損的處理,石材的翻新處理和光澤保持。所以時下的不銹鋼拋光機這些特點在產品使用中發揮了非常妙的作用,為我們行業發展更多優質拋光產品提供了有力保障,提升了企業的競爭力,推動了行業繁榮發展,刺激著不銹鋼拋光機行業健康迅猛發展。由于受到環境等因素制約,這個環節對石材光澤的處理主要是依賴于一些小型設備和工具甚至于完全靠手工完成,這些都屬于小磨拋。由于小磨拋所使用的設備和材料限制,磨拋后得到的光澤程度也是較低的,所以我們會經常見到人們對石材再拋光后光澤下降和不均勻的抱怨。


              敏化現象。不銹鋼因含有Cr在表面形成氧化鉻薄膜,失去化學活性,稱為鈍化狀態,但奧氏體系若經過475~850℃溫度范圍時,C會與Cr結合生成碳化鉻(Cr23C6)析出在晶體邊界,因此晶界附近的Cr含量大減,成為貧Cr區。此時,其耐腐蝕性會降低,對腐蝕環境特別敏感,故稱為敏化現象。敏化現象在氧化酸的使用環境容易腐蝕,此外還有焊接熱影響區和熱間彎曲加工區。其次就是平時需要做好保養工作,保養的好才能恰到好處的延長其使用壽命,使用時也能更好的發揮它的作用。其防治方法有:

              a) 在475~850℃溫度范圍升降時,迅速通過,讓Cr沒有足夠的時間和C結合,無法析出碳化鉻。

              b) 對已經發生敏化現象的不銹鋼施以高溫固溶化處理,加熱至足以使碳化鉻分解的溫度(1040~1150℃),然后急速冷卻,使碳化鉻來不及析出。

              c) 選用低碳型不銹鋼加入304L、304LN、316L、316LN、316J1L、317L、317LN,使Cr無法與C結合。一般C含量在0.05%以下,焊接便不會產生晶界腐蝕,但須特別注意清潔,避免油污等含C物質的污染。在含氫氧酸的混合酸中使用,C含量在0.03%以下。當工件尺寸大于拋光盤半徑,或偏心距過大時,工件會露出拋光盤,既有一部分表面不能與拋光盤始終接觸。



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