北京AF真空鍍膜設備性價比高

常用的光學鍍膜有哪些？

干涉濾光片

是種類多、結構復雜的一類光學薄膜。它的主要功能是分割光譜帶。常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。截止濾光片可以把所考慮的光譜區分成兩部分，一部分不允許光通過（稱為截止區），另一部分要求光充分通過（稱為帶通區）。按照通帶在光譜區的位置又可分為長波通和短波通二種，它們簡單的結構分別為，這里H、L分別表示厚的高、低折射率層，m為周期數。具有以上結構的膜系稱為對稱周期膜系。如果所考慮的光譜區很寬或通帶透過率的波紋要求很高，膜系結構會更加復雜。

帶通濾光片只允許光譜帶中的一段通過，而其他部分全部被濾掉,按照它們結構的不同可分為法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片。

光學薄膜的結構與法－珀標準具相同，因為由它獲得的透過光譜帶都比較窄，所以又叫窄帶干涉濾光片。這種濾光片的透過率對薄膜的損耗非常敏感，所以制備透過率很高、半寬度又很窄的濾光片是很困難的。多腔濾光片又叫矩形濾光片，它可以做窄帶帶通濾光片，又可以做寬帶帶通濾光片，制備波區較寬，透過率高，波紋小的多腔濾光片同樣是困難的。

誘增透濾光片是在金屬膜兩邊匹配以適當的電介質膜系，以增加勢透過率，減少反射，使通帶透過率增加的一類濾光片。雖然它的通帶性能不如全電介質法－珀濾光片,卻有著很寬的截止特性,所以還是有很大的應用價值。特別在紫外區，一般電介質材料吸收都比較大的情況下,它的優越性就更明顯了。圖3的a、b、c分別給出法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片的典型曲線。

多功能鍍膜設備及鍍膜方法與流程

現在，真空鍍膜機是用于外表處理PVD膜層的專用設備，包含真空磁控濺射鍍膜機、真空蒸騰鍍膜機、真空多弧離子鍍膜機等，真空磁控濺射鍍膜機可在低溫狀態下進行非金屬資料進行鍍膜，真空蒸騰鍍膜機和真空多弧離子鍍膜機歸于高溫鍍膜，適用于金屬資料鍍膜。

每種鍍膜機都有各自特色和使用范圍約束，如需鍍制多種不同膜層以及進行金屬和非金屬資料的鍍膜，需求置辦上述多種真空鍍膜機，存在設備出資大的缺陷。

為了處理上述問題，供給一種多功能鍍膜設備及鍍膜辦法。手套箱蒸鍍一體機，本體系由真空鍍膜體系和手套箱體系集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體空氣下進行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。首要用于太陽能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導體制備等試驗研討與使用。

蒸騰鍍膜與手套箱組合，完成蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個薄膜成長和器材制備進程高度集成在一個完好的可控環境空氣的體系中，消除有機大面積電路制備進程中大氣環境中不穩定要素影響，保證了、大面積有機光電器材和電路的制備。

光學鍍膜的作用介紹

光學鍍膜由薄膜層組合制作而成，它產生干擾效應來提高光學系統內的透射率或反射性能。光學鍍膜的性能取決于層數、個別層的厚度和不同的層接口折射率。用于精密光學的常見鍍膜類型：增透膜(AR)、高反射（鏡）膜、分光鏡膜和過濾光片膜。增透膜包括在高折射率的光學中并用于化光通量和降低鬼影。高反射膜的設計可在單個波長或范圍廣泛的整個波長以反射。分光鏡膜用于將入射光分為已知的透射光和反射光輸出。濾光片應用于大量的工業應用中，并以特定波長用于透射、反射、吸收或衰減光。愛特蒙特光學還可以提供各種定制鍍膜滿足任何應用程序需要。

光學鍍膜經過精心設計用于特定的入射光角和特定的偏振光，例如S偏振光、P偏振光或隨機偏振光等。如果鍍膜設計的入射光角為0°，但使用時的入射光角為45°，則鍍膜將不會以規定的透射率/反射規格執行。同樣地，鍍膜一般設計用于隨機偏振光，因此在設計用于隨機偏振光的鍍膜上使用S偏振光或P偏振光將會再次產生無效的規格。

光學鍍膜是由沉積電介質和金屬材料制作而成，例如薄層中的Ta2O5和/或Al2O3，在應用中使用的光波長通常是四分之一波長光學厚度(QWOT)或半波光學厚度(HWOT)。這些薄膜由高折射率和低折射率層交替而成，從而誘發需要的干擾效應。請參閱圖1有關寬帶增透膜設計的樣品說明。