鎂合金微弧氧化技術信賴推薦【日照微弧技術】

微弧氧化技術的發展

       微弧氧化技術是北京師范大學核科學與技術學院（低能核物理研究所）（北京市輻射中心）1992年起開發的科研課題，先后得到國家教委、國家九五863高技術研究發展計劃、國家自然科學基jin的大力支持。微弧氧化電源已獲得國家發明專利，其特征在于采用多重電網濾波器和變壓器隔離的三相平衡供電，利用功率開關元件進行斬波變換，獲得脈沖寬度連續可調的大功率正、負脈沖。1997-1998年完成國家“863”計劃項目“等離子體微弧氧化表面改性技術”，1997年12月“鋁合金微弧氧化技術”通過國家教委和863專家組的聯合專家鑒定。2002年微弧氧化設備獲得國家重點新產品證書，2004年微弧氧化雙極性大功率脈沖電源獲得發明專利。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

       微弧氧化是比較環保沒有污染的。微弧氧化表面的陶瓷層比較致密，孔隙率極低，具有很高的耐腐蝕性能，鹽霧腐蝕性能提高5-10倍，綜合解決了實際應用的困擾問題，為鎂合金開發應用提供了技術保障，對“十五”國家科技攻關計劃具有重大意義，其社會效益和經濟效益將十分顯著。陽極氧化工藝中所產生的污染物較多，在倡導環保的大環境下企業又要兼顧自身成本，由此陽極氧化的處境可謂是岌岌可危！對比陽極氧化，微弧氧化主要不足在于顏色系列較少，但其增加了電泳涂裝工藝后的微弧復合處理工藝（MCC），可以很好地改善顏色單一的問題。微弧氧化生產線、微弧氧化圖片、微弧氧化電源

微弧氧化封孔處理

       由于微弧氧化陶瓷層表面分布著大量的微孔放電通道，腐蝕介質能通過孔隙浸入鎂合金基體產生腐蝕，在微弧氧化后對鎂合金表面進行封孔處理，在孔隙的吸附作用下，封孔劑循著這些微孔或裂紋進入并填充，降低氧化膜的孔隙率，使外層疏松層逐漸變得致密，膜層與基體結合良好，復合膜層具有更加致密和均勻的微結構，腐蝕電位正移，腐蝕電流密度降低，腐蝕電阻增大，進一步提升了MAO陶瓷層的耐蝕耐磨能力，同時可以增加膜層的色澤，改善膜層的美觀性，或為其他膜層和結構材料的制備提供優良的襯底。解決的辦法是檢查陽極氧化工藝是否規范，看溫度，電壓，導電等因素是否穩定，若有異常，請相應調整規范之，若無異常，可適當延長氧化時間，保證膜厚達標。