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發布時間:2021-01-04 22:02  
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平面拋光機行業此刻正遭遇新一輪的洗牌,傳統的平面拋光機隨著廠家越來越多,技術越來越透明,所能帶來的利潤也逐漸微薄。拋光通常使用的是1μm以下的微細磨粒,拋光盤用瀝青、石蠟、合成樹脂、人造革和錫等軟質金屬或非金屬材料制成。如何能突破瓶頸發展新的商機已是迫在眉睫。而國家扶持半導體的相關政策出來后,隨著硅片生產廠商的積極響應,也給平面拋光機生產廠家帶來了新的契機。
目前以平面拋光機廠家已經開始研發硅片磨拋技術,主要針對大尺寸硅片的研磨和拋光。研磨機屬于典型的自動化設備,它的結構包括工件工作臺進給機構、工件調整機構、研磨輪進給及壓力控制機構和自動控制系統四大部分。但是在機會之余,我們也面臨一些問題和挑戰,相對國外而言,我們的技術是比較落后的,要想盡快有所成就還需要先向日本,德國等地學習,然后在此基礎上進行改良和完善,以適用我們國內的生產環境。
拋光不克不及進步工件的尺寸精度或多少外形精度,而因此獲得滑膩外面或鏡面光芒為目標,偶然也用以打消光芒(消光)。平面拋光通常以拋光輪作為拋光對象。不銹鋼按照結構可以分為奧氏體不銹鋼,馬氏體不銹鋼,鐵素體不銹鋼。拋光輪一樣平常用多層帆布、不織布纖維、毛氈或皮革疊制而成,雙側用金屬圓板夾緊,其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等平均混雜而成的拋光劑。拋光時,高速扭轉的拋光輪(圓周速率在20米/秒以上)壓向工件,使磨料對工件外面發生滾壓和微量切削,從而獲得光明的加工外面,外面粗拙度一樣平常可達Ra0.63~0.01微米;當采納非油脂性的消光拋光劑時,可對光明外面消光以改良表面。
由于原理不同,兩種方式所呈現出來的優劣勢各不相同,對工件表面精度的影響也存在差異。
離散型研磨,上下兩個研磨盤先進行相互研磨,然后對工件進行研磨,三者分別有不同的研磨軌跡,工件研磨終是三種運動
軌跡的結合。運動軌跡比較復雜,不會發生重合,所以隨著時間的增加,工件的兩個表平面平行度逐步提升,終能達到非常高的平行度。
相對而言,在固結研磨中,研磨機上的磨盤和磨片表面雖然能修整到較高的平行度,但是由于工件是粘貼在磨盤上的,粘貼劑有一定的厚度和誤差,這將一定程度影響工件的平行度。而國家扶持半導體的相關政策出來后,隨著硅片生產廠商的積極響應,也給平面拋光機生產廠家帶來了新的契機。而且,固結研磨的研磨軌跡是磨盤和工件兩種運動軌跡的結合,工件外側的線速度大于內側線速度,外側研磨量比內側研磨量要大,隨著時間的增加,很容易導致工件內凸外陷,所以工件的平行度誤差相對也較大。