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拋光是指利用機械、化學或電化學的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質對工件表面進行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的，有時也用以消除光澤（消光）。通常以拋光輪作為拋光工具。拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成，兩側用金屬圓板夾緊，其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。

極氧化鋁板化學拋光中出現的缺陷及其糾正措施是在生產的發展過程中不斷總結完善的。白色附著物。該缺陷的形貌為化學拋光后的鋁材表面上附著有一層白色的沉積物，且分布不均勻，附著物底部的鋁材表面有可能被腐蝕。通常，該缺陷是因為化學拋光槽液中溶鋁量太高所致，如果化學拋光槽液的相對密度在1.80以上，可以得到進一步證實。則需采取措施調整槽液中的溶鋁量到正常的范圍內。

多晶金剛石拋光液多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質產生劃傷。主要應用于藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。氧化硅拋光液氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。