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電腐蝕機腐蝕的特性    1、工藝復雜要求較高，需對位密貼工件。    2、電蝕刻出來的邊角不夠平滑有毛刺麻點    3、深度達不到也不好掌控深淺。    4、質量不可控，只有完全成型了之后才能判斷是否為良品，報廢率高。    5、表面附著一層黑色物質難以清理，影響后期上色。    6、紋路圖案更換起來成本會比較高。    7、腐蝕時間太慢，產量低。蝕刻機可以分為化學蝕刻機及電解蝕刻機兩類。在化學蝕刻中是使用化學溶液，經由化學反應以達到蝕刻的目的，化學蝕刻機是將材料用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。




 刻蝕機目前國際上主要的供應商為應用材料、LamResearch等。中國方面技術有慢慢追上的趨勢，即將登錄科創板的中微半導體，其自主研發的5nm等離子體刻蝕機經臺積電(2330-TW)驗證，將用于全球首條5nm制程生產線。而北方華創則是在14nm技術有所突破。市場預估今明兩年中國刻蝕機需求分別達15億美元與20億美元。    拋光：可以使晶圓表面達到性的平坦化，以利后續薄膜沉積工序。美國應用材料、Rtec等均為國際上主要供應商，中國則有中電科裝備、盛美半導體等。但陸廠的產品才剛打入8寸晶圓廠中，12寸的相關設備還在研發，明顯與國際大廠有實力上的差距。市場預計今明兩年中國拋光機需求將達3.77億美元與5.11億美元。

藥性減低的原因及還原方式

　　隨著化學反應的進行，蝕刻液藥性降低，是因為三氯化鐵氧化成了氯化亞鐵，此時需要將氯化亞鐵還原成三氯化鐵增加藥液酸性。需加入水溶液(還原劑)﹑鹽酸()

　　2.還原反應：2FeCl2 NaClO 2HCL﹦2FeCl3 NaCl H2O

　　氯化亞鐵 鹽酸=三氯化鐵 氯化鈉 水(由于亞鐵離子在水中極易水解而產生氫氧化亞鐵：FeCl2 H2O=,Fe(OH)2 HCL所以為了防止氯化亞鐵水解變質,常在氯化亞鐵溶液中添加一些鹽酸.)

　　3.由于鹽酸容易揮發，隨著化學反應的進行，還會發生以下反應：

　　6FeCl2 NaClo 3H2O=4FeCl3 2Fe(OH)3 ↓ NaCl

　　氯化亞鐵 水=三氯化鐵 氫氧化鐵(沉淀物) 氯化鈉

　　(其中氫氧化鐵為沉淀物，所以隨著化學反應時間的加長，藥箱內會出現粘稠狀物質。除去該粘稠狀沉淀物，需采用物理過濾方式，如：過濾網過濾或凈水裝置)