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真空鍍膜機濺射工藝

真空鍍膜機濺射工藝主要用于真空鍍膜機濺射刻蝕和薄膜沉積兩個方面。濺射刻蝕時，被刻蝕的材料置于靶極位置，受Ar離子的轟擊進行刻蝕。刻蝕速率與靶極材料的濺射產額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關。真空鍍膜機濺射刻蝕時，應盡可能從真空鍍膜機濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應氣體，使之與濺出的靶極原子反應生成揮發性氣體，通過真空系統從濺射室中排出。沉積薄膜時，濺射源置于靶極，受Ar離子轟擊后發生濺射。如果靶材是單質的，則在襯底上生成靶極物質的單質薄膜；若在濺射室內有意識地引入反應氣體，使之與濺出的靶材原子發生化學反應而淀積于襯底，便可形成靶極材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進行濺射而得。在濺射中，濺出的原子是與具有數千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來的，其能量較高，往往比蒸發原子高出1～2個數量級，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發為佳。

若在濺射時襯底加適當的偏壓，可以兼顧襯底的清潔處理，這對生成薄膜的臺階覆蓋也有好處。另外，用真空鍍膜機濺射法可以制備不能用蒸發工藝制備的高熔點、低蒸氣壓物質膜，便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。離子束濺射裝置中，由離子槍提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產生濺射。離子槍可以兼作襯底的清潔處理和對靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產生電荷堆積，可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子槍之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應用于表面分析儀器中，對樣品進行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限，用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難。等離子體真空鍍膜機濺射也稱輝光放電濺射。產生濺射所需的正離子來源于輝光放電中的等離子區。靶極表面必須是一個高的負電位，正離子被此電場加速后獲得動能轟擊靶極產生濺射，同時不可避免地發生電子對襯底的轟擊。

臥式蒸發真空鍍膜設備

該設備結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產、操作方便、能耗低性能穩定等優點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光環、化妝品、玩具等行業。

臥式蒸發真空鍍膜設備具有：結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產、操作方便、能耗低性能穩定等優點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光環、化妝品、玩具等行業。

鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全啞）、工藝電鍍、拉絲、雨滴、七彩等等。

至成鍍膜機廠家可以根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。

真空鍍膜機的全新發展真空泵與隔膜泵機械密封的安裝與使用

真空鍍膜機的全新發展真空泵與隔膜泵機械密封的安裝與使用 真空鍍膜機的發展相當迅速，隨著生產率的提高，生產費用大大降低，已經為真空鍍膜產品的普遍使用鋪平了道路。 以卷繞式真空鍍膜機為例，剛開發時可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達2253mm。基材卷筒的大卷徑是1000mm，大卷繞速度750m/min。自動裝卸的半連續卷繞式真空鍍膜機鍍膜時間占整個周期的75%，輔助操作時間只占25%。隨著計測技術、控制技術的進步和電子計算機的應用，卷繞式真空鍍膜機正向著高度自動化和高度可靠性的方向發展。

真空電鍍和水電鍍的區別

真空電鍍和水電鍍的區別 1、簡單來說，真空電鍍不過油，其附著力很差，無法過百格TEST，而水電鍍的明顯好于真空電鍍！因此，為保證真空電鍍的附著力，均需后續進行特殊的噴涂處理,成本當然高些。 2、水電鍍顏色較單調，一般只有亮銀和亞銀等少數幾種，對于閃銀、魔幻藍、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就無能為力了。而真空電鍍可以解決七彩色的問題。 3、水電鍍一般的鍍層材質采用“六價鉻”，這是非環保材料。對于“六價鉻”有如下的要求：歐盟：76/769/EEC：禁止使用；94/62/EC：<100ppm；ROHS：<1000ppm 如此嚴格的要求，國內一些廠家已開始嘗試使用“三價鉻”來替代“六價鉻”；而真空電鍍使用的鍍層材質廣泛、容易符合環保要求。