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發布時間:2020-12-21 05:53  
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簡述
真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。
真空鍍膜特點
(4)可采用屏蔽式進行部分鍍鋁,以獲得任意圖案或透明窗口,能看到內裝物。
(5)鍍鋁層導電性能好,能消除靜電效應;其封口性能好,尤其包裝粉末狀產品時,不會污染封口部分,保證了包裝的密封性能。
(6)對印刷、復合等后加工具有良好的適應性。由于以上特點,使鍍鋁薄膜成為一種性能優良、經濟美觀的新型復合薄膜,在許多方面已取代了鋁箔復合材料。
主要用于風味食品、農產品的真空包裝,以及藥品、化妝品、香1煙的包裝。另外,鍍鋁薄膜也大量用作印刷中的燙金材料和商標標簽材料等。
真空鍍膜應用
目前有多種金屬可用作蒸鍍金屬的原材料,但是在包裝技術領域中用得廣、普遍、且有實用經濟價值的應首推鋁(具有高純度的鋁材)在直接真空蒸鍍法中的金屬鍍層厚度一般為0. 007一0. 008mm 。
近已開發的新一代的轉移法真空鍍金屬法中所蒸鍍的金屬厚度只有前者(直接法)的1/500左右(約為0. 000015mm )。過去國外以及目前國內大部采用直接法進行真空鍍金屬工藝,其缺點是耗金屬量相對較多;對基材的平整度和光潔度的要求也特別高;特別是制造所謂“鍍鋁紙”時,除對作為基材的紙張要求具有極1佳的平整、光潔度外,因紙含水量較多(10%左右),在高真空和較高溫度下易失水變脆,使工藝更加復雜,產品成本也相應提高。