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              NR9 3000P光刻膠廠家量大從優「賽米萊德」

              發布時間:2021-09-29 18:18  

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              正性光刻膠

              正性光刻膠

              正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性,當沒有溶解存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中,感光劑是光敏化合物,常見的是重氮萘醌(DNQ)。在曝光前,DNQ是一種強烈的溶解,降低樹脂的溶解速度。在紫外曝光后,DNQ在光刻膠中化學分解,成為溶解度增強劑,大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種曝光反應會在DNQ中產生羧酸,它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對比度,所以生成的圖形具有良好的分辨率。顯影之后,NR9-3000PY展現出一種倒梯形側壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF處理。


              NR77-20000PMSDS

              光刻膠運輸標識及注意事項

              標簽上標明的意思

              R標識

              R10 YI燃。

              S標識

              S16  遠離火源-禁止吸煙。

              S 24 避免接觸皮膚。

              S 33對靜電放電采取預防措施。

              S 9  將容器保持在通風良好的地方。


              水生毒性

              通過自然環境中的化學、光化學和微生物降解來分解。一般不通過水解降解。300 ppm對水生生物是安全的。鹵化反應可能發生在水環境中。



              NR9-250P

              20.有沒有光刻膠PC3-6000的資料嗎?

              A PC3-6000并不是光刻膠,它是用在chip

              on glass 上的膠粘劑。

              21.是否有Wax替代品?

              A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定,比較容易去除掉。

              22.貴公司是否有粘接硅襯底和襯底的材料?

              A 有,IC1-200就是

              23.請問是否有不用HMDS步驟的正性光刻膠?

              A 美國Futurrex 整個系列的光刻膠都不需要HMDS步驟,都可以簡化。

              24.一般電話咨詢光刻膠,我們應該向客戶咨詢哪些資料?

              A 1 需要知道要涂在什么材質上,2

              還有要知道需要做的膜厚,3

              還要知道光刻膠的分辨率

              4還有需要正膠還是負膠,5

              需要國產還是進口的

              27.想找一款膜厚在120um,的光刻膠,有什么光刻膠可以做到啊!

              A 以前有使用過美國有款光刻膠可以達到Futurrex

              NR21-20000P ,。

              28.有沒有了解一款美國Futurrex

              NR9-250P的光刻膠,請教下?

              A 這是一款負性光刻膠,濕法蝕刻使用的,附著力很好,耐100度的溫度,國內也有可以代理的公司,Futurre

              光刻膠是世界第4大的電子化學品制造商,在光刻膠的領域有著不錯的聲譽,在太陽能光伏,和LED半導體行業都有不錯的市場占有率。

              29.想找款膜厚的產品,進行蝕刻,有什么好推薦?

              A 厚膜應用(thick

              film applicati),主要是指高縱橫比(Aspect

              ratios),高分辨率,高反差,有幾款產品向你推薦一下《NR4-8000P,NR2-20000P,NR5-8000,這些產品都需要用到邊膠清洗液》


              的光刻


              ?Futurrex

              提供先進化學技術的多樣化解決方案

              成立于1985年,總部設在美國新澤西州,富蘭克林市,高速成長并超過20年連續盈利的跨國公司

              公司業務覆蓋范圍包括北美,亞太以及歐洲

              基于多樣化的技術

              應用領域:微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統、生物芯片、微流體、平面印刷

              解決方案:的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程

              客戶:從財富100強到以風險投資為背景的設備研發及制造公司

              使命

              目標

              提供特殊化學品和全新工藝來增加客戶的產能

              策略

              提供獨特的產品來優化生產制程,以提高設備能效

              領的技術提升生產過程中的整體性價比

              工藝步驟的減少降低了成本和產生瑕疵的可能

              增加客戶的產能和生產的效率

              工藝減化

              非同尋常的顯微構造、金屬及介電層上的圖形轉換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定

              在生產過程中,不含有害溶劑

              支持所有客戶的需要,與客戶共創成功


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