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真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法

真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法 依據電真空器材的結構特色及丈量精度要求，常用的有兩種檢漏辦法，即氦罩法和噴吹法（這兩種檢漏辦法具體介紹可見：氦罩法和噴吹法的氦質譜檢漏儀檢漏常見辦法）。檢漏時，先用氦罩法進行總漏率的測定，當總漏率超出答應值后再用噴吹法進行漏孔的認位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達檢漏狀況后，用一個充溢氦氣的查驗罩，把被檢件全體或部分的表面面包圍起來，如圖4所示。查驗罩充氦時先將罩內空氣排出再充氦，以確保罩內氦濃度盡可能挨近100百分之，被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會有漏率值改變，顯示出漏率值。氦罩時刻也要繼續3~5倍檢漏儀呼應時刻。ASM192T2氦質譜檢漏儀反應時刻小于0.5s,因而氦罩時刻30s即可。氦罩法可方便地測定被檢件總漏率，不會漏掉任何一處漏點，但不能確認漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連，對被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當有漏孔存在時，氦氣就經過漏孔進入質譜儀被檢測出，噴吹法彌補了氦罩法不能定位的缺點。

真空鍍膜設備的處理方法

空鍍膜設備廠家分析真空鍍膜設備的處理方法 加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理，達到工件去油、去污和脫水的目的。 基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗漬等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學清冼方法將其去掉。 對經過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至較小。因為這些容器優先吸附碳氫化合物。對于高度不穩定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應貯存在真空干燥箱中。

真空鍍膜機注意事項及保養

真空鍍膜機注意事項及保養 真空鍍膜機的鍍膜原理是在高真空條件下，利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當溫度，熱蒸發成蒸氣分子材料，蒸發出來的分子到處迸射，碰到待鍍物體，隨之沉積在基材表面形成膜層。真空鍍膜機廣泛應用于微電子，光學成膜，裝飾，表面工程等領域。它在防止油污和工作效率上具有非常好的性能。而想要真空鍍膜設備長期穩定的運行，正確的使用及保養方法是必不可少的。 開機前要檢查水電氣是否正常，開機后，光控系統等于要先穩定1小時再使用，鍍膜前要檢查光控片、晶控片壽命，加料、清潔之類的需要蓋上離子源的防護板，防止離子源柵網損壞。為了使光學鍍膜機能正常工作，平時需要對機器進行保養，定期更換泵油，2個月左右為宜，真空泵也2個月一換，新的真空泵需要在使用半個月就立即更換，定期清潔設備及周邊環境，保持設備及環境的干凈。