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?PVD真空鍍膜五金鍍膜加工

PVD真空鍍膜過程的均勻性

PVD真空鍍膜過程非常復雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

PVD鍍膜加工工藝流程比較長、工序繁多，發生故障的影響因素會很多。如PVD鍍膜前處理不凈、清洗不良、電解液成分失調及雜質污染、生產環境不良等。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個細節之中。

真空鍍膜

②光密度法。光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征。光密度沒有量綱單位，是一個對數值，通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。 光密度是入射光與透射光比值的對數或者說是光線透過率倒數的對數。

計算公式為： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常鍍鋁膜的光密度值為l～3(即光線透過率為0.10/0~10%)，數值越大鍍鋁層越厚。 光密度OD值、方阻值對應的鋁層厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和鋁層厚度對照表 光密度 OD值 電阻值 Ohm/Square方阻值 鋁層厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600

  電鍍加工廠告訴你電鍍是什么？，希望對大家有所幫助。

  電鍍：1：利用電解工藝，將金屬或合金沉積在鍍件表面，形成金屬鍍層的表面處理技術。 所屬學科：電力（一級學科）；配電與用電（二級學科） 定義2：利用電解在制件表面形成均勻、致密、結合良好的金屬或合金沉積層的過程。 所屬學科：機械工程（一級學科）；表面工程（二級學科）；電鍍與化學鍍（三級學科）

淺談真空鍍膜的幾大優勢

 一：堆積資料廣泛：可堆積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法堆積的低電位金屬，通以反響氣體和合金靶材更是能夠堆積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，并且能夠根據需要規劃涂層系統。

二：節省金屬資料：因為真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕功能等適當優良，堆積的真空電鍍鍍層能夠遠遠小于慣例濕法電鍍鍍層，到達節省的意圖。