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什么是光學鍍膜：

光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

光學鍍膜原理：真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進行的涂料，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種涂料，所以。蒸發和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。

蒸發涂層通常是加熱目標，以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發，并通過成膜方法（散射島結構-梯形結構-層狀生長）沉積在基材的表面上，薄膜。

對于濺射狀涂層，很容易理解目標材料是用電子或高能激光器轟擊的，表面組分以自由基或離子的形式濺射，后沉積在基底表面上終形成一部薄膜。

常見的光學鍍膜材料有以下幾種：

1、二氧化硅材料特點：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

2、氧化鋯材料特點白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高，用其制備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點。

小型實驗真空鍍膜機

小型實驗真空鍍膜機適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹脂工藝品，玻璃等經真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍、灰、黑等多種鮮艷顏色，具有提高產品檔次，外觀更顯華貴作用。采用電阻熱蒸發方式進行鍍膜、功能齊全，適應性強的特點?？梢圆捎秒娮枵舭l鍍，電弧鍍或磁控濺射鍍。

小型實驗真空鍍膜機適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹脂工藝品，玻璃等經真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍、灰、黑等多種鮮艷顏色，具有提高產品檔次，外觀更顯華貴作用。實驗用真空鍍膜機具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、易維護的特點?？蓪崿F全自動控制或手動控制、操作簡單可靠，可自動完成各種鍍膜工藝參數。可以采用電阻蒸發鍍，電弧鍍或磁控濺射鍍。不管是哪種鍍膜方式均可用于科研、教學、電子元件、及涂料生產等行業的表面表面鍍膜，可電鍍鋁、錫、銅、鉻等金屬。

熱成型模真空鍍膜機

高強度材料熱沖壓熱成型模真空鍍膜機高強度合金鋼的熱沖壓與熱成形是金屬成形領域中一種發展快的趨勢。在這些領域中所使用工具的磨損主要為磨粒磨損和粘著磨損，并且需要經歷要求嚴苛的熱環境條件。HC物理氣相沉積涂層展現了其高韌性，耐磨性以及抗擦傷性，而這些性能恰恰能夠明顯地提高工具的使用效率。

HC35,HC22與HC30結合滲氮處理的涂層常用于熱沖壓應用過程中。

壓鑄，金屬注射成型壓鑄與金屬注射成型過程中所使用的模腔，模仁與鑲件必須經受嚴峻的高溫，腐蝕以及磨損條件。HC物理氣相沉積涂層與HC化學氣相沉積涂層具有高韌性，熱穩定性，耐磨性以及抗腐蝕性，而這些性能恰恰能夠提高工具的使用效率與產品的質量。

鍍膜理論

鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結合創建較大的總振幅。當光束為反相位（180°位移）時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應，導致結合的振幅降低。這些效應被分別稱為建設性和破壞性的干涉。

光的波長和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應可簡單地通過單層增透膜例子說明。當光傳輸穿過系統時，在鍍膜任一側的兩個接口指數更改處將出現反射。為了盡量減少反射，我們希望它們在個接口重組時，這兩個反射部分具有180°的相位移。這個相位差異直接對應于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學厚度設置為λ/4獲得良好實現。