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真空鍍膜

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

簡述

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜應(yīng)用

目前有多種金屬可用作蒸鍍金屬的原材料，但是在包裝技術(shù)領(lǐng)域中用得廣、普遍、且有實(shí)用經(jīng)濟(jì)價值的應(yīng)首推鋁(具有高純度的鋁材)在直接真空蒸鍍法中的金屬鍍層厚度一般為0. 007一0. 008mm 。

近已開發(fā)的新一代的轉(zhuǎn)移法真空鍍金屬法中所蒸鍍的金屬厚度只有前者(直接法)的1/500左右(約為0. 000015mm )。過去國外以及目前國內(nèi)大部采用直接法進(jìn)行真空鍍金屬工藝，其缺點(diǎn)是耗金屬量相對較多;對基材的平整度和光潔度的要求也特別高;特別是制造所謂“鍍鋁紙”時，除對作為基材的紙張要求具有極1佳的平整、光潔度外，因紙含水量較多(10%左右)，在高真空和較高溫度下易失水變脆，使工藝更加復(fù)雜，產(chǎn)品成本也相應(yīng)提高。

PS硬片密度低，韌性差，燒，所以一般用來生產(chǎn)各種工業(yè)用的吸塑托盤。PS片材是如今幾年發(fā)展起來的新型環(huán)保包裝材料，憑著其優(yōu)良熱成型性能，良好的環(huán)保性能及衛(wèi)生性能，廣泛應(yīng)用于醫(yī)1藥、食品、玩具、電子。