廣州真空離子鍍膜設備信賴推薦 至成鍍膜設備制造廠家

真空鍍膜設備檢漏環節,你都會了嗎?

新人來公司報道，前期都要進行嚴格的真空鍍膜設備撿漏培訓，后期還要經過公司傳幫帶的方式來幫助新人快速成長，為什么公司對撿漏培訓如此重視和嚴格，下面小編為大家講解真空鍍膜設備撿漏的重要性：真空鍍膜設備檢漏是保證真空鍍膜設備真空度的一項檢查措施，簡稱檢漏，真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的，如果撿漏有紕漏，必然會造成或大或小的損失，由此得不償失，所以機器在運作過程中檢漏環節是必不可少的。經驗豐富的技術人員都知道，撿漏產生的原因一般都是真空室內漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的連接位細縫中產生，當抽氣系統抽氣后使真空室內壓強下降，外部與內部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內，造成真空度下降。

影響蒸鍍氧化硅類蒸鍍薄膜性能的因素

響蒸鍍氧化硅類蒸鍍薄膜性能的因素有：被蒸鍍的基膜、蒸鍍方法、蒸鍍工藝條件對蒸鍍氧化硅薄膜性能的影響等。

①塑料薄膜的類型：蒸鍍的氧化硅膜與塑料薄膜之間的黏合牢度，與塑料基膜種類之間有較大的關系，PET、PVC等極性較大的薄膜與氧化硅之間的黏合性較佳，而非極性的薄膜與氧化硅之間的黏合力則比較差。

②塑料薄膜表面狀態：蒸鍍氧化硅類蒸鍍薄膜的阻隔性，除了受蒸鍍層的厚度影響之外，更大程度上取決于氧化硅鍍層的均勻性。裂縫、等缺欠，會導致蒸鍍氧化硅類蒸鍍薄膜的阻隔性明顯下降，缺陷的形成除了蒸鍍層本身的化學成分與結構之外，所用基膜的表面平滑性也是一個重要因素，粗糙度越大，越容易造成蒸鍍缺陷，但適量的粗糙度，會使蒸鍍層和基膜的表面之間形成物理錨接，改善層間黏合力。

③塑料薄膜的表面預處理狀況：為了得到的蒸鍍薄膜，對基膜進行適度的表面電暈處理是十分必要的。塑料薄膜經過表面電暈處理，可在其表面形成氧化層，增大基膜與蒸鍍涂層之間的結合力。在預處理設備一定的情況下，如果預處理時間不足，表面改性不充分，基膜與涂層之間的結合牢度不理想；預處理時間過長，則可能引起基膜較深層次的界面弱化，產生基膜自身的弱界面層，引起整個材料的結合力下降。

真空鍍膜設備中頻磁控濺射知識

真空鍍膜設備中頻磁控濺射知識 源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。 不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。 用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。