離子鍍膜機廠家按需定制 至成鍍膜設備

真空磁控濺射鍍膜機鍍鋁時,會碰到哪些問題

真空磁控濺射鍍膜機能鍍各種物質和各式各樣的膜層，比喻：鍍金、鍍銀、鍍鈦等等，運用行業有裝飾、五金、陶瓷、等等，運用非常廣泛。但是還是有很多人，對真空磁控濺射鍍膜機不是很了解，特別是剛進入這個行業的人，今天小編要為大家詳細講解真空磁控濺射鍍膜機在鍍鋁的過程中，會經常碰到哪些問

真空磁控濺射鍍膜機真空鍍鋁是在真空狀態下，將鋁金屬加熱熔融至蒸騰，鋁原子凝結在高分子材料外表，構成極薄的鋁層。真空鍍鋁請求基材外表潤滑、平坦、厚度均勻;挺度和摩擦系數恰當;外表張力大于38Dyn/Cm2;熱性能好，經得起蒸騰源的熱輻射和冷凝熱的效果;基材含水量低于0.1%。常用的鍍鋁基材有聚酯(PET)、聚(PP)、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、聚(PVC)等薄膜。

真空鍍膜設備實驗分析與討論蒸發磁控濺射鍍膜機

蒸發磁控濺射真空鍍膜設備是設備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子離化沉積在基材上和真空中利用電阻加熱法對金屬絲進行處理,

利用特定薄膜涂層實現產品不導電和電磁屏蔽的作用,以滿足現行手機的電子產品制造行業標準。

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這種設備集中了等離子體處理,陰極磁控濺射,電阻蒸發鍍膜裝置,工作可靠、重復性一 致性良好、沉積速率高快,附著力好,

膜層品質細膩，可保持原有工件表面光潔,具有韌性好,不易脫落。過程中實現了鍍膜工藝全自動化控制,在基材表面利用真空鍍膜方法進行涂層,蒸發磁控濺射鍍膜機具有生產成本低、產品合格率高、綠色環保等特點,主要適用于電腦、手機、工業電子電器、可鍍制復合金屬膜、合金膜電磁屏蔽膜及特殊膜層等領域。

真空鍍膜設備中頻磁控濺射知識

真空鍍膜設備中頻磁控濺射知識 源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。 不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。 用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。